Gebraucht KLA / TENCOR Surfscan SP2 #9314791 zu verkaufen

KLA/TENCOR Surfscan SP2 ist eine hochentwickelte Masken- und Wafer-Inspektionsanlage, die verwendet wird, um Qualität und Konsistenz bei der Herstellung von Halbleiterchips zu gewährleisten. Das System verwendet eine helle Laserbeleuchtungsquelle mit einer hochauflösenden Bilddetektionseinheit, um Bilder von Merkmalen auf Wafern, Masken und Retikeln in Auflösungsstufen zu erfassen, die in früheren Systemen nicht sichtbar sind. KLA Surfscan SP2 misst Toleranzen von 0,5 Mikrometern auf den komplexesten Retikeln, um höchste Genauigkeit und Präzision zu gewährleisten, und es kann Funktionsgrößen überprüfen, die über die von herkömmlichen optischen Inspektionssystemen hinausgehen. Die Maschine verwendet eine patentierte „Laser-Plus-Shutter“ -Technik, um innerhalb eines gewünschten Sichtfelds klare Bilder der kleinsten Merkmale auf der Maske oder dem Wafer zu erhalten, und ihr dynamisches Linsenwerkzeug ermöglicht es dem Benutzer, die Auflösung bis zu x128 zu vergrößern. Darüber hinaus ist die fortschrittliche hochempfindliche Bildverarbeitungstechnologie des Asset in der Lage, hochgenaue Bilder aller Feldgrößen bis zu 55 Dezibel zu erhalten. TENCOR SURFSCAN SP 2 ist mit einfacher Bedienung konzipiert, mit benutzerfreundlicher Oberfläche und intuitiven grafischen Bedienelementen, die eine einfache Einrichtung und Bedienung ermöglichen. Es ist mit einem Feedback (FB) -Algorithmus für eine schnelle und genaue Fehlerisolierung und einer patentierten Fehlerisolierungstechnik für schwierige Fehler, wie z. B. herkömmliche „Durchdrucke“ und „Kratzer“, ausgestattet. Zur Benutzerfreundlichkeit ist das Modell mit einer Reihe von Software-Tools mit der Fähigkeit, Berichte von Scan-Daten in verschiedenen Dateiformaten, einschließlich txt, csv, und html-Dateien zu generieren gebündelt. KLA SURFSCAN SP 2 ist eine kompakte, komplett automatisierte Ausrüstung, die vor Ort aufrüstbar ist und eine minimale Serviceunterstützung erfordert, was es zu einer idealen Inspektionswahl für kritische Maskierungs- und Waferinspektionsbedürfnisse macht. Es wurde für qualitätskritische, serienreiche Umgebungen entwickelt, und seine effiziente Kombination aus Software und Hardware bietet höchste Genauigkeit, Zuverlässigkeit und Geschwindigkeit.