Gebraucht KLA / TENCOR Teron 610 #9291368 zu verkaufen

KLA/TENCOR Teron 610 ist eine automatisierte Masken- und Wafer-Inspektionsanlage, die entwickelt wurde, um die strengen Industrieanforderungen für eine fortschrittliche Inspektion und Überprüfung von Photomasken und Wafern zu erfüllen. Das System nutzt zwei hochauflösende ASML 5500 Bild- und Projektionssysteme und ein helles Feldbildmodul, um hochauflösende Bilder der Maske oder des Wafers zu erfassen und die Bildgebung für eine hochpräzise Analyse auf das Substrat zu projizieren. Die automatisierten optischen Inspektionsmöglichkeiten (AOI) von KLA Teron 610 geben ihm die Möglichkeit, Fehler zu erkennen, einschließlich Zeilenumbrüche, Breitenvariation und fehlende Formen, so klein wie 40nm. Die Bilddaten können direkt auf einem FTP-Server gespeichert werden, was die Übertragung für Berichte erleichtert und die Daten der Einheit in andere Qualitätssicherungssysteme integriert. TENCOR Teron 610 ist auch mit automatischen Fehlerüberprüfungen (ADR) ausgestattet, mit denen Benutzer Fehler schnell klassifizieren, markieren und speichern können. Darüber hinaus kann die Maschine rückseitige Musterverschiebungsfehler erkennen, sodass Benutzer nicht übereinstimmende Muster auf der Rückseite des Substrats identifizieren können. Das Tool verfügt über zwei Videomikroskopstationen, mit denen bis zu acht Bilder zur detaillierten Analyse eines bestimmten Musters erfasst werden können. Das Asset bietet auch eine erweiterte Mustererkennung, so dass es subtile Fehler erkennen kann, die andere Systeme vermissen würden. Es nutzt hochauflösende Bildgebung, um mikroskopische Details zu erfassen, die einmal über die Auflösung automatischer optischer und defekter Inspektionssysteme hinausgingen. Schließlich verwendet Teron 610 einen dynamischen Defektfilter, der es Benutzern ermöglicht, ihre Inspektionsbemühungen auf bestimmte Arten von Defekten zu konzentrieren. Insgesamt macht die Kombination dieser Funktionen KLA/TENCOR Teron 610 zu einem leistungsstarken und hochentwickelten Masken- und Wafer-Inspektionsmodell. Seine hochauflösenden bildgebenden und automatisierten Inspektionsmöglichkeiten ermöglichen es ihm, Fehler bis zu 40 nm zu erkennen, und seine erweiterten Mustererkennungs- und Defektfilterfunktionen machen es zu einer idealen Ausrüstung, um die Genauigkeit der anspruchsvollsten Photomasken und Wafer sicherzustellen.