Gebraucht KLA / TENCOR Teron 610 #9378999 zu verkaufen

KLA/TENCOR Teron 610 ist eine Masken- und Wafer-Inspektionsanlage, die zur präzisen Fehlererkennung und Analyse von fortschrittlichen Photomasken-Mustern und Wafern entwickelt wurde. Es verwendet eine proprietäre Architektur, um eine hochempfindliche Kanten- und Musterfehlererkennung zu erreichen, unabhängig von Toleranzen, Prozessparametern und Geometrie. Das System nutzt fortschrittliche Optik und Szintillationsstrahlungsquelle und bietet eine hohe Empfindlichkeit für eine Auflösung von 0,35 Mikrometern. Eine Reihe von Abbildungsmodi wie Feldausrichtung, schnelle Scan- und Schattierungskorrektur ermöglichen eine erhöhte Prozessgleichförmigkeit und eine verbesserte Mustertreue in verschiedenen Arten von Masken und Wafern. Darüber hinaus verwendet KLA Teron 610 eine einzigartige Laserscantechnik zur Fehlerprofiloptimierung und Wafermustererkennung. TENCOR Teron 610 prüft eine Vielzahl von Photomasken- und Wafernoten mit mindestens 0. 250 Mikrometer Steigung. Die maximale Flächeninspektion pro Wafer beträgt 12 Zoll im Durchmesser, während die maximale Nutzfläche für Masken 28 Zoll beträgt. Der Durchsatz des Geräts wird durch seine automatisierte Masken- und Wafer-Handhabungsmaschine optimiert. Teron 610 bietet auch eine umfangreiche Suite von proffessionellen CAD-Werkzeugen, Bühneninspektion, 3-dimensionale Bildanalyse und Fehlerüberprüfungsalgorithmen sowie geometrische Inspektionsalgorithmen zur Erkennung von fehlerhaften Stiften, Brücken und anderen subtilen Fehlern. Die Benutzeroberfläche von KLA/TENCOR Teron 610 ist intuitiv gestaltet und ermöglicht eine einfache Einrichtung, effiziente Bedienung und Batch-Verarbeitung. Die interaktive Benutzeroberfläche bietet darüber hinaus anspruchsvolle Funktionen wie Fehlerüberprüfung, Statistikberechnung und Reporting sowie Vergleich der Inspektionsergebnisse. Das Tool kommt auch mit automatisierten Überprüfungs- und Mustererkennungsmodulen, die bei der Identifizierung wiederkehrender Fehler von einem Wafer zum nächsten helfen. Zur Erhöhung der Datensicherheit verfügt die KLA Teron 610 über eine optionale Netzwerkschnittstelle, die es den Betreibern ermöglicht, den Betrieb der Anlage fernzusteuern. Das Modell unterstützt auch eine Reihe von Wafer-Handling-Systemen von Drittanbietern. Es ist eine kostengünstige und zuverlässige Inspektionsausrüstung für jede Umgebung, die die Erkennung und Analyse von Photomaskenmustern und Wafern erfordert.