Gebraucht KOSAKA LAB RSP300-11 #293637186 zu verkaufen

KOSAKA LAB RSP300-11 ist eine Masken- und Wafer-Inspektionsanlage zur Erkennung von Defekten im Musterbildungsprozess der Photolithographie und im Layout von Designdaten. Es bietet Inspektionslösungen für eine Vielzahl von Prozessen wie FEOL (Front-End-of-Line), BEOL (Back-End-of-Line) und WLP (Wafer-Level-Verpackung). Das System besteht aus vier Hauptkomponenten: einer photolithographischen Projektionseinheit, einem Netzteil, einer Videokamera und einem Computer. Die photolithographische Projektionsmaschine besteht aus einem Mehrstrahllaser und einer beweglichen X-Y-Z-Stufe. Es wird verwendet, um das lithographische Retikel auf den Wafer zu projizieren und das auf der Waferoberfläche gebildete Resistschichtmuster zu inspizieren. Das Netzteil versorgt den Laser und die Bühnensteuerung mit Strom. Die Videokamera ist eine hochauflösende Digitalkamera, die Bilder des Wafers aufnimmt. Das Computerwerkzeug dient zur Steuerung und Analyse der vom Asset erzeugten Daten. RSP300-11 verwendet einen erweiterten Algorithmus, um das auf dem Wafer gebildete Muster zu überprüfen und zu analysieren. Sie ist in der Lage, prozessbedingte Defekte zu erkennen, die nicht durch Sichtprüfung erkennbar sind. Es kann auch grobe Fehler aufgrund von Musterfehlstellungen im Zusammenhang mit Fotomasken-Fehlstellungen und Zeilenbreite-Schrittfehlern erkennen. Das Modell kann einfach mit verschiedenen Inspektionsoptionen wie Shower File, Chor File, Laserscannen, Sektoren usw. für gezieltere Fehlererkennung konfiguriert werden. Das Gerät umfasst auch eine Reihe automatischer Werkzeugfunktionen wie Fehlerzusammenfassung, Fehlerbereichszuordnung, Wiederholungsfehleranalyse und statistische Fehleranalyse. KOSAKA LAB RSP300-11 ist in der Lage, bisherige Daten zu speichern und zum Ergebnisvergleich und Vergleich mit Kundenspezifikationen zu verwenden. Das System bietet auch ein Merkmal, bei dem falsche Relativsignale aufgrund von Hintergrundgeräuschen des Musters durch Steuerung ihrer Intensitäten entfernt werden können. Zusammenfassend ist RSP300-11 eine leistungsstarke Masken- & Wafer-Inspektionseinheit, die erweiterte Funktionen bietet, um Musterfehler zu erkennen und mit minimalem Benutzeraufwand mit Kundenspezifikationen zu vergleichen. Sein fortschrittlicher Algorithmus, mehrere Konfigurationsoptionen und automatische Werkzeugfunktionen ermöglichen es Benutzern, prozessbezogene Fehler schnell und effizient zu erkennen und die Stabilität des Prozessfensters und die Produktausbeute zu verbessern.