Gebraucht LASERTEC 7MD 62S #293652019 zu verkaufen
URL erfolgreich kopiert!
Tippen Sie auf Zoom
ID: 293652019
Automatic mask inspection system
STEAG / HAMATECH 210079 9110000 ASE GmbH Machine
KARL SUSS / MICROTEC Lithography G Ionisation unit
PANASONIC VP-5565A Oscilloscope, 50 MHz
USHIO UIS-2511DE88
OJIDEN OFL-TV-S5 Foot switch
(2) PANASONIC VQ-054R31 Probes
Controlled power processor
Controller keyboard
Automatic photomask / Reticle inspection system
Photomask defect detector
ST-Cam cable
Counter port
PIO Port cable
CPU: Intel Pentium 4 3.4Ghz / 1 GB RAM
DIF DD (TL) Card
SLCE (TL) Card
LIMAD(TD) Card
DIF DM Card
DIF DC (PSL) Card
SLCE (PSL) Card
LIMAD (AF) Card
DIF DG Card
(3) AD DG Cards
AMTX Card
DIF DD (TR) Card
SLCE (TR) Card
(5) DMTX Cards
DIF DJ Card
SLCE (HVC) Card
LIM AD (RD) Card
DIF DC (PSR) Card
SLCE (PSR) Card
F DET Card
POSI COMP Card
SL CONT Card
DEF MIX Card
SYNC Card.
LASERTEC 7MD 62S Mask & Wafer Inspection Equipment ist ein fortschrittliches automatisiertes Masken- und Wafer-Inspektionssystem zur hochpräzisen Inspektion von Masken und Wafern, die im Halbleiterherstellungsprozess verwendet werden. Das hochmoderne Gerät bietet kompromisslose hochauflösende Bildgebung und 100X Vergrößerung mit Vollfeldinspektion zur Fehlererkennung. Die Maschine unterstützt eine breite Palette von Substraten wie Front- und Rückseitenscheiben, sowie Wafermessungen, lithographiebasierte Ausrichtung, PET, B- oder D-seitige Maskeninspektion und Module für High-End-Maskenanwendungen für fortgeschrittene Knotengeräte. Substrate, die bis zu 8 „messen, können vom Werkzeug inspiziert werden, mit einer zusätzlichen erweiterten Feldoption zur Aufnahme von 12“ -Substraten. Der Vermögenswert verwertet eine hochauflösende 20 Megapixelkamera und geradlinige fps 14 Hochleistungsscan-Technologie, um den strengsten Anforderungen der anspruchsvollsten Anwendungen zu entsprechen. Es ist in der Lage Submikron-Auflösung zusammen mit bis zu 6 Inspektionsalgorithmen, um maximale Prozesssteuerung für Anwendungen wie Kontaminationsanalyse, Linienkantenanalyse, Overlay-Analyse, ALD-Foliendickensteuerung und ALD-Restfilmsteuerung zur Verfügung zu stellen. Das Modell bietet auch eine Vielzahl von Bildanalysemodi, einschließlich optischer Fehlerinspektion, Linienkanten-/Breitenmessungen, Streu- und Überlagerungsmessungen. Das umfassende Softwarepaket bietet umfassende Datenverarbeitung, Inspektionsprozesskontrolle sowie Fehlerklassifizierung und -bewertung, um ein Höchstmaß an Prozesskontrolle und Qualitätskontrolle zu gewährleisten. Für mehr Zuverlässigkeit und Prozessstabilität verfügt das Gerät über eine proprietäre dynamische Musteranpassungstechnologie, die präzise Mustererkennung und Driftsteuerung bietet. Darüber hinaus verfügt es über eine an Bord befindliche Wassermanagementtechnologie zur Optimierung der beim Fotoätzen erzeugten Wasser-Nebenprodukte sowie einen High-End-Strahlmonitor zur Gewährleistung der Stabilität in der Elektronenoptik. LASERTEC 7MD62S Mask & Wafer Inspection System bietet ein umfassendes Werkzeugset für präzise und automatisierte Inspektion und Analyse. Mit seinen anspruchsvollen Hard- und Softwarelösungen ist das Gerät ein ideales Werkzeug, um maximale Prozessstabilität, Wiederholbarkeit und Qualitätssicherung bei der Konstruktion und Herstellung von Halbleiterbauelementen zu gewährleisten.
Es liegen noch keine Bewertungen vor