Gebraucht LASERTEC PEGSIS P100 #9140823 zu verkaufen

LASERTEC PEGSIS P100 ist ein Masken- und Waferinspektionssystem für die Forschung und Entwicklung fortschrittlicher Photolithographieverfahren. Es bietet die erforderlichen Fehlererkennungs- und Klassifizierungsmöglichkeiten und kombiniert sowohl Spinner-basierte Oberflächenscanner-Technologien als auch bildbasierte Methoden. Die analytischen Fähigkeiten des P100 ermöglichen eine feinere Bewertung der Größe, Position und anderer Merkmale jedes Fehlers und ermöglichen eine schnelle Bewertung und Fehlerbehebung aller Probleme, die im Konstruktionsprozess auftreten können. Der P100 verfügt über erweiterte 4-Wege-Röntgenabtastfunktionen, ein dediziertes Mustererkennungssystem und ausgeklügelte Designvergleichsalgorithmen. Das 4-Wege-Röntgenscannen ermöglicht die gezielte Identifizierung topographisch komplexer Merkmale und feiner Tiefen- oder anormaler Defekte. Dieses Abtastsystem ermöglicht die genaue Messung und Analyse dieser Merkmale und liefert die notwendigen quantitativen Daten für die weitere quantitative Bewertung verschiedener Aspekte der Masken- und Waferstruktur und Zusammensetzung. Der P100 ist auch mit Mustererkennungs- und Vergleichssystemen zur automatischen Erkennung von gängigen Masken- und Waferdefekten ausgelegt. Diese Systeme sind speziell darauf ausgelegt, eine schnelle und effiziente Fehlererkennung zu ermöglichen und Veränderungen in der Wafer- und Maskenstruktur vorherzusagen und zu antizipieren. Die Mustererkennungssysteme sind auch in der Lage, Bildähnlichkeitsanalysen durchzuführen, die helfen, ähnliche Fehler zu identifizieren und zu bestätigen, die im Zusammenhang mit einem Engineering-Design stehen können. Die Bildähnlichkeitsanalyse wird weiter durch die merkmalsbasierten Designvergleichsalgorithmen des P100 ergänzt, die eine umfassende Auswertung verschiedener Aspekte der Struktur von Maske und Wafer ermöglichen. Durch den Vergleich verschiedener Konstruktionen ist das P100 ausgestattet, um die Ähnlichkeiten und Unterschiede zwischen ihnen zu identifizieren und Korrelationen zwischen dem Konstruktionsprozess und etwaigen Masken- oder Waferanomalien herzustellen. PEGSIS P100 ist so konzipiert, um fortschrittliche Masken- und Wafer-Inspektionsmöglichkeiten mit der Fähigkeit zur schnellen Erkennung und Klassifizierung von Defekten zur Verfügung zu stellen. Mit der Kombination aus Röntgenabtast-, Mustererkennungs- und Designvergleichsalgorithmen bietet der P100 leistungsstarke und vielseitige analytische Erkenntnisse, die zur schnellen Fehlerbehebung und Optimierung jedes Entwurfsprozesses verwendet werden können.