Gebraucht LEICA APECS 3020 #9410740 zu verkaufen

LEICA APECS 3020 ist eine leistungsstarke Masken- und Wafer-Inspektionsanlage, die den strengen Anforderungen der Halbleiterindustrie gerecht wird. Dieses System beseitigt manuelle Fehler, indem es eine Reihe automatisierter Methoden zur schnellen und genauen Inspektion von Masken und Wafern bereitstellt. Das Gerät ist in der Lage, lithographische Masken bis zu 6 "Durchmesser und 1,0 um Funktionsgröße zu überprüfen und bietet mit seiner fortschrittlichen Bildgebungstechnologie eine hervorragende 3D-Analysefähigkeit. APECS 3020 verwendet fortschrittliche automatisierte optische Inspektionstechnologie (AOI), um Masken- und Wafermuster schnell und genau zu überprüfen. Die AOI nutzt die digitale Bilderfassung, um Bilddaten von der Maskenoberfläche zu erfassen und diese dann zur Erzeugung eines digitalen Bildes zu verarbeiten. Dieses Bild wird dann analysiert und mit einem vordefinierten Kriteriensatz verglichen, um potenzielle Maskenfehler oder Unregelmäßigkeiten zu erkennen und zu identifizieren. Die Maschine ist mit einer hochpräzisen Stufe und fortschrittlichen Software-Algorithmen ausgestattet, um präzise und genaue Wafer-Inspektionen zu gewährleisten. Die hochauflösende Stufe ermöglicht die genaue Erkennung kleiner Merkmale auf der Waferoberfläche, während die fortschrittlichen Software-Algorithmen helfen, präzise und genaue Positionsmessungen von Merkmalen auf der Maskenoberfläche zu gewährleisten. Die LEICA APECS 3020 verfügt zudem über intuitive Bedienelemente und eine benutzerfreundliche Benutzeroberfläche für intuitive Bedienung und präzise Kontrolle von Masken- und Waferinspektionsprozessen. Alle Bedienelemente sind über einen Touchscreen und eine ergonomische Tastatur zugänglich. Das Asset bietet auch eine Vielzahl von Datenspeicherformaten wie TIFF, JPEG, RAW, GIF und BMP, um Analyseergebnisse zu speichern. APECS 3020 ist mit einer Vielzahl fortschrittlicher Funktionen ausgestattet, um die bestmöglichen Ergebnisse in kürzester Zeit zu gewährleisten. Diese Funktionen umfassen Hochgeschwindigkeits-Scan, integrierte Fehlerreparatur, automatische Fokuskontrolle, erweiterte Bildverarbeitungs- und Datenanalysefunktionen, pixelweise Maskeninspektion, automatisierte Fehlerkorrektur und automatische Berichtsfunktionen. Diese Funktionen, kombiniert mit seiner fortschrittlichen Masken- und Wafer-Inspektionstechnologie, bieten unübertroffene Genauigkeit, Zuverlässigkeit und Geschwindigkeit. Abschließend ist LEICA APECS 3020 ein leistungsstarkes Masken- und Wafer-Inspektionsmodell, das den hohen Anforderungen der Halbleiterindustrie gerecht wird. Dieses Gerät verfügt über eine fortschrittliche Optik, intuitive Systemsteuerungen und eine Vielzahl von Automatisierungs- und Analysefunktionen, die eine schnelle und genaue Analyse von Masken und Wafern ermöglichen. APECS 3020 kann dazu beitragen, höchste Qualität und Zuverlässigkeit für alle Halbleiterbauelemente zu gewährleisten.