Gebraucht LEICA INS 2000 #293626746 zu verkaufen

LEICA INS 2000 ist eine Masken- und Waferinspektionsanlage von LEICA Microsystems. Entworfen, um den Durchsatz zu maximieren und die kleinsten Fehler auf dem kompliziertesten Maske-Down-Lithosystem bis zu 1X, 2X und 5X zu identifizieren, ist die Freisprecheinheit ideal für die beschleunigte Überprüfung von kritischen Vorderseiten- und Rückseitenmaskendefekten. INS 2000 beinhaltet fortschrittliche Kinematik und Diagnostik, die wesentlich sind, um eine präzise Ausrichtung von Maske und Wafer oder Film zu gewährleisten. Mit autonomer Einstellung, paralleler Erkennung und Wafermessung beseitigt die Maschine Bedienungsfehler und eliminiert Zeitverschwendung bei der manuellen Ausrichtung. Dies sorgt für höchste Qualitätsergebnisse bei schnellstmöglichen Geschwindigkeiten. LEICA INS 2000 inspiziert Masken- und Waferoberflächen mit höchster Auflösung mit einem patentierten optischen Verfahren namens „Confocal Imaging“. Dieses Verfahren beruht auf einer Abbildungstechnik, die auf der Wechselwirkung zwischen einer Niederleistungs-Laserlichtquelle und der Oberfläche der Maske oder des Wafers basiert. Das Werkzeug erfasst hochauflösende Bilder der Oberflächenstrukturen mit Submikron-Auflösung. INS 2000 ist mit automatischer Fehlerverfolgungssoftware ausgestattet, um die menschliche Arbeit weiter zu reduzieren und genauere und zuverlässigere Ergebnisse zu ermöglichen. Das Asset verfügt auch über Fehlerklassifizierungs- und Priorisierungsoptionen, die den Prozess rationalisieren, indem erkannte Fehler nach Größe und Merkmalsattributen gruppiert werden. Dies sorgt für einen effizienteren Produktionsprozess und trägt zur Kostensenkung bei. LEICA INS 2000 verfügt zudem über einen modularen Aufbau, der eine einfache Anpassung des Modells an die Produktionsanforderungen ermöglicht. In Kombination mit seiner hohen Geschwindigkeit, Genauigkeit und Wiederholbarkeit ist dieses Feature ideal für Prüfprozesse mit hohem Durchsatz. INS 2000 ist eine fortschrittliche Masken- und Wafer-Inspektionsausrüstung, die die neuesten Technologien und bildgebenden Techniken zur Identifizierung einer genauen Oberflächentopographie enthält. Dieses System ermöglicht die schnelle und effiziente Inspektion von Masken- und Waferoberflächen, was für die Lieferung konsistenter und zuverlässiger Endprodukte unerlässlich ist. Mit dem modularen Aufbau und der patentierten Optik ist LEICA INS 2000 eine unübertroffene Lösung für Maskier- und Waferinspektionssysteme.