Gebraucht LEICA INS 2000 #293680723 zu verkaufen

LEICA INS 2000 ist eine fortschrittliche bildgebende Technologie für die Masken- und Waferinspektion. Dieses Instrument bietet hochauflösende Bildgebung von Masken und Wafern auf Nanometerebene, so dass Benutzer komplexe Merkmale genau überprüfen und messen können. INS 2000 verfügt über 2 nebeneinander liegende Stereoköpfe, die ein 8-Megapixel-Bild pro Kopf bieten. Das Instrument zeigt die Bilder auf einem kontrastreichen LCD-Monitor an und verwendet ausgefeilte Software-Tools für die Bildverarbeitung und -analyse. LEICA INS 2000 bietet präzise, fortschrittliche Bildgebungsfunktionen mit einer Bildauflösung von bis zu 0,35 µm, automatisiertes Nähen und Zusammenführen von Bildern und proprietäre Nanofokussierung mit maximalem Bildkontrast. Die Abbildung wird mit einem hochauflösenden Laserinterferometer und einem präzisen Z-Achsen-Bühnensystem in Kombination mit einer zum Patent angemeldeten Pixelregistrieroptik erreicht. Automatisiertes Nähen und Zusammenführen von Bildern ermöglicht das Scannen großer Substrate mit nur einem Scan. Diese Eigenschaften bieten das bestmögliche Bild für die Masken- und Waferinspektion. Für die Maskeninspektion ist das INS 2000 in der Lage, hochauflösende, komplexe Muster mit minimalem Overlay-Missverhältnis zu untersuchen. Dadurch entfällt die Notwendigkeit einer physikalischen Mikroskopie, die zeit- und arbeitsintensiv sein kann. Ein einzigartiges Werkzeug zur Mustererkennung mit ausgeklügelten Algorithmen kann Musterfehler identifizieren und inkonsistente Prozesse schnell identifizieren. Darüber hinaus ermöglicht das automatisierte Stichen und Zusammenführen von Bildern die genaue Messung von Registrierungs- und Überlagerungsabweichungen. Dieses Tool unterstützt die parametrische 1D- und 2D-Analyse mit einer optionalen Fokus-Abrufoption für optimalen Bildkontrast. LEICA INS 2000 ist ein wertvolles Werkzeug für die Waferinspektion. Es kann schnell den gesamten Wafer mit hoher Auflösung scannen, um Partikelverunreinigungen zu erkennen. Es gibt Anwendern auch die Möglichkeit, Fehler auf der Waferoberfläche schnell zu identifizieren und zu quantifizieren, wie Kratzer, Chips und ätzbezogene Fehler. Darüber hinaus verwendet es eine patentierte Technologie, um Metalllecks, Hohlräume und andere Verunreinigungen zu erkennen. Diese Funktionen ermöglichen es Benutzern, ein vollständiges Bild des Wafers in Minuten zu erhalten, was Zeit und Geld spart. INS 2000 ist ein leistungsstarkes Instrument zur Masken- und Waferinspektion. Es bietet hochauflösende Bildgebung und automatisiertes Nähen und Zusammenführen von Bildern, wodurch Benutzer ihre Proben schnell und genau überprüfen können. Seine ausgeklügelten bildgebenden Werkzeuge sorgen für optimalen Bildkontrast und parametrische Analyse, während seine fortschrittlichen Partikelerkennungsalgorithmen es Anwendern ermöglichen, Fehler schnell zu identifizieren und zu quantifizieren. LEICA INS 2000 ist ein unschätzbares Werkzeug für jede Anwendung, die präzise Bildgebung und Analyse erfordert.