Gebraucht LEICA INS 300 #9298489 zu verkaufen
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LEICA INS 300 ist ein Stand der Technik, Halbleiter-Messtechnik-Maske und Wafer-Inspektion Ausrüstung in der mikroelektronischen Herstellung verwendet. Diese hochspezialisierte Maschine verwendet eine Kombination aus überlegener Optik, hochauflösender Bildgebung und präzisen Bewegungssteuerungen, um die für eine Vielzahl von Masken- und Waferanwendungen erforderlichen Funktionen genau auszuwerten. Die Maschine verfügt über eine vakuumdichte, luftfreie Umgebung, die optische Klarheit und ein 30mm Sichtfeld gewährleistet. Die Scanlaserbaugruppe ermöglicht eine hohe Bildgebungsgenauigkeit mit einer Auflösung von bis zu 0,7 Mikrometern. Darüber hinaus kann das vielseitige digitale Abbildungssystem bis zu 10 Bilder pro Sekunde aufnehmen, was eine maximale Genauigkeit der aufgenommenen Bilder gewährleistet. INS 300 verwendet leistungsstarke benutzerdefinierte Software-Algorithmen, um seine Bildgebungs- und Analysefunktionen zu optimieren. Seine ausgeklügelten Algorithmen ermöglichen es ihm, Muster und Defekte durch eine Vielzahl von Standard- und proprietären Techniken schnell zu identifizieren und zu analysieren. Dazu gehören Optical Resolution Imaging Measurement (ORIM), Fourier-Transformation Infrarot (FTIR) Spektroskopie und Digital Cross Correlation (DCC) Techniken. Es bietet seinen Benutzern auch die Möglichkeit, eigene benutzerdefinierte Algorithmen zu erstellen, um spezifische Anforderungen zu erfüllen. Um seine Genauigkeit und Zuverlässigkeit weiter zu verbessern, ist LEICA INS 300 mit verschiedenen Bewegungsreglern, Servomotoren und Beschleunigungsmessern ausgestattet. Diese Komponenten ermöglichen es dem Gerät, die Empfindlichkeiten verschiedener Bewegungen schnell und präzise auf unterschiedliche Bedingungen einzustellen. INS 300 garantiert Gesamtleistung, Zuverlässigkeit und Genauigkeit. Es ist eine ideale Wahl für eine Vielzahl von Inspektionsaufgaben, von grundlegenden optischen Tests bis hin zu komplexen messtechnischen Anwendungen. Mit seiner überlegenen Maschinenarchitektur und präzisen Messungen kann es dazu beitragen, dass für die Herstellung verwendete Masken ein Höchstmaß an Funktionalität aufweisen.
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