Gebraucht LEICA INS 3000 DUV #9265730 zu verkaufen

ID: 9265730
Wafergröße: 8"
Weinlese: 2000
Macro defect inspection system, 8" Loading configuration: ASYST SMIF (2) Cassette stations Hard disk, 3.5" Microscope objectives: 2.5x, 5x, 20x, 100x, 150x, 250x Option: Bright and dark field illumination Damaged parts: Workstation Diaphragm module Pre-aligner with tumble and stage unit Includes: Clean room manuals CD-ROM Manuals Calibration standards UV Illumination Confocal Signal light tower Operation system: Windows NT 4.0 Power supply: 208 V, 60 Hz 2000 vintage.
LEICA INS 3000 DUV ist eine hochmoderne Masken- und Wafer-Inspektionsanlage für fortschrittliche Wafer-Fertigungsanwendungen. Das System nutzt eine hochauflösende Abbildungseinheit, eine ultrastabile Schwingungsisolationsplattform und eine fortschrittliche Workflow-Software-Suite, um Fehler genau zu messen, die die Leistung integrierter Schaltungen wie Transistoren und Widerstände beeinflussen können. Mit seiner fortschrittlichen Technologie kann die Maschine Fehler während der Herstellung von Wafern identifizieren und messen, wodurch Ingenieure ein detailliertes Verständnis der strukturellen Integrität und Leistung des Materials erhalten. Das INS 3000 DUV nutzt eine ultrastabile Plattform zur Schwingungsisolierung, um eine ideale Umgebung für die Erkennung von stark lokalisierten Defekten zu gewährleisten. Dank dieser speziellen Plattform bietet das Werkzeug eine außergewöhnliche Bildstabilität, die genauere Messungen ermöglicht. Darüber hinaus ermöglicht die extrem niedrige Beleuchtungsstärke überlegenen Kontrast und Empfindlichkeit bei Unregelmäßigkeiten sowie Submikron-Auflösung. Die anspruchsvolle Workflow-Software-Suite des Asset ermöglicht sowohl die Datenerfassung als auch die Analyse von Fehlern. Die Software bietet Anwendern einfachen Zugriff auf hochauflösende Bilder von Mustern und Defekten, kombiniert mit verschiedenen Algorithmen zur Fehlerbewertung und -klassifizierung. Darüber hinaus ermöglicht die Software es Benutzern, große Abmessungen von Waferdaten zu speichern und Rückverfolgbarkeitsinformationen aufzuzeichnen. LEICA INS 3000 DUV ist ein leistungsstarkes und zuverlässiges Masken- und Wafer-Inspektionsmodell für die anspruchsvollsten Anwendungen in der Halbleiterindustrie. Die ausgeklügelten Überwachungs- und Analysefunktionen des Geräts in Verbindung mit seiner überlegenen bildgebenden Technologie tragen zur höchsten Genauigkeit bei der Fehlererkennung bei. Die Schwingungsisolierungsplattform des Systems und die fortschrittliche Workflow-Software sorgen für ein sicheres und zuverlässiges Tool, das hilft, Kosten zu senken, Ertragsraten zu verbessern und die Produktqualität sicherzustellen.
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