Gebraucht LEICA INS 3000 #9148695 zu verkaufen

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ID: 9148695
Wafergröße: 8"
Wafer defect inspection system, 8" Open cassette 150x / 0.95 APO 100x / 0.90 APO 50x / 0.85 APO 10x / 0.30 HCPL 5x / 0.12 PL 5x / 0.90 PL.
LEICA INS 3000 ist eine leistungsstarke Masken- und Waferinspektionsanlage, die sowohl für die Wafer- als auch für die Retikelherstellung entwickelt wurde. Es verwendet sowohl fortschrittliche bildgebende Techniken als auch proaktive mathematische Algorithmen, um subtile Fehler in Wafern und Retikeln zu erkennen. Das System verfügt über eine hochempfindliche Farbabbildungseinheit mit breitem Spektrum und einen patentierten Hochfrequenzalgorithmus, der das Auftreten kleiner Partikel sowohl auf dem Wafer als auch auf dem Retikel erkennt. Die Bildverarbeitungsmaschine erfasst an jedem Pixel auf der Oberfläche des Wafers ein hochwertiges Farb- und Breitspektrumbild des Wafers. Durch den Einsatz einer ausgeklügelten Dunkelfeldoptik, die es dem Werkzeug ermöglicht, Amplituden- und Phasendefekte zu erkennen, werden eventuell vorhandene Verunreinigungen auf dem Wafer deutlicher. Das bildgebende Element weist außerdem eine zum Patent angemeldete aktive Messstruktur auf, die eine genaue Pixelregistrierung ermöglicht und sicherstellt, dass das Bild frei von Verzerrungen und Verwischungen ist. Durch diese Funktion stellt das Modell sicher, dass die aufgenommenen Bilder von höchster Auflösung und Klarheit sind. LEICA INS-3000 ist auf Effizienz und Genauigkeit ausgelegt. Es verfügt über mehrere automatisierte Prüfzyklen, die die Inspektion an die spezifischen Bedürfnisse des Kunden anpassen. Dies gewährleistet wiederholbare und genaue Ergebnisse sowohl hinsichtlich der Wafer- als auch der Retikelprüfaufgaben. Das Gerät ist auch mit einer Advanced Process Control (APC) -Funktion ausgestattet, die es ermöglicht, das System so zu konfigurieren, dass es erkannte Fehler mit hoher Genauigkeit und Präzision diagnostiziert und korrigiert. INS 3000 integriert auch Wafer Edge Control-Technologie. Dadurch wird sichergestellt, dass der Umfang des Wafers korrekt und genau auf das betreffende Retikelmuster ausgerichtet ist. Darüber hinaus ist die Einheit mit zweistufiger Prozesssteuerung ausgeführt. Dadurch wird sichergestellt, dass auch die geringste Anomalie mit mehr Geschwindigkeit und Genauigkeit als je zuvor erkannt und isoliert wird. Die Maschine verfügt über eine erfahrene, intuitive Benutzeroberfläche, um die Bedienung und den laufenden Support zu erleichtern. Durch eine Reihe von intuitiven Funktionen und Funktionen sind die Bediener in der Lage, Inspektionsaufgaben genau und effektiv zu verwalten sowie Daten zu analysieren und den Fortschritt in Echtzeit zu überwachen. Das Tool verfügt auch über integrierte Diagnosen, um im Falle eines Problems Informationen zur Fehlerbehebung bereitzustellen. Zusammenfassend ist INS-3000 eine leistungsstarke Masken- und Wafer-Inspektion, die für die Herstellung von Wafern und Retikeln entwickelt wurde. Es ist in der Lage, subtile Defekte mit branchenführender Präzision genau zu erkennen und zu isolieren. Das Modell bietet hervorragende Funktionen wie automatisierte Inspektionszyklen, APC-Funktionen, Wafer Edge Control-Technologie und zweistufige Prozesssteuerung. Es bietet auch eine intuitive Benutzeroberfläche für Benutzerfreundlichkeit und Flexibilität sowie Fehlerbehebungs- und Diagnosefunktionen.
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