Gebraucht LEICA INS 3000 #9186595 zu verkaufen

Es sieht so aus, als ob dieser Artikel bereits verkauft wurde. Überprüfen Sie ähnliche Produkte unten oder kontaktieren Sie uns und unser erfahrenes Team wird es für Sie finden.

ID: 9186595
Wafergröße: 8"
Weinlese: 1999
Wafer defect inspection system, 8" SMIF 1999 vintage.
LEICA INS 3000 ist eine Masken- und Wafer-Inspektionsanlage, die präzise und präzise Messungen von Halbleiterprodukten hoher Dichte ermöglicht. Diese fortschrittliche Technologie verbessert die Qualitätskontrolle und reduziert die Fehlerchancen. Das System besteht aus zwei Hauptkomponenten: einem Atomkraftmikroskop (AFM) und einem optischen Hochvergrößerungsmikroskop. Der AFM wird verwendet, um die dreidimensionale Form jedes Wafers zu messen und feine topographische Merkmale zu identifizieren. Das optische Mikroskop verwendet eine Halogenlampe, um Fehler in den Waferschichten und Photoresistmustern zu erkennen. LEICA INS-3000 verfügt über eine große Tischplatte für große Wafergrößen. Es verfügt über einen Präzisionsmanipulator, um den Wafer während der Inspektion genau zu bewegen, und eine Neigungseinstellung, um den Winkel des Mikroskops einzustellen. Das Gerät enthält auch eine ausgeklügelte Software, die intuitive Tools zur Überprüfung mehrerer Funktionen auf einmal bietet. Der Prozess der Inspektion jedes Wafers mit INS 3000 wird automatisiert. Sobald der Bediener einen Wafer auf den Tisch legt, wird der Inspektionsprozess eingeleitet. Die Maschine verwendet dann das AFM, um die dreidimensionale Form des Wafers zu messen und etwaige Fehler zu erkennen, die das optische Mikroskop möglicherweise nicht festgestellt hat. INS-3000 umfasst eine komplette Reihe von Nachbearbeitungssoftware-Funktionen, um die Ergebnisse der Inspektion zu analysieren. Es bietet leicht lesbare Grafiken und numerische Werte, um die Genauigkeit der Messungen zu quantifizieren. Das Tool generiert auch detaillierte Protokolle für die Analyse von Prozessänderungen. LEICA INS 3000 ist ein hochmodernes Gerät zur Waferinspektion, das Präzision und Genauigkeit vereint. Mit seiner intuitiven Schnittstelle und leistungsstarker Software ist es ideal für die Produktion und Qualitätskontrolle von Halbleitern hoher Dichte. Das Modell bietet eine verbesserte Prozesssteuerung, höhere Zuverlässigkeit und bessere Ausbeute.
Es liegen noch keine Bewertungen vor