Gebraucht LEICA INS 3300 #9410296 zu verkaufen
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ID: 9410296
Weinlese: 2003
Wafer inspection system
FOUP Loadport, 12"
2003 vintage.
LEICA INS 3300 ist eine Masken- und Waferinspektionsanlage, die speziell für die Inspektion von mikroelektronischen High-End-Geräten entwickelt wurde. Es wurde von LEICA Microsystems entwickelt, um Produktionsgeschwindigkeit und Präzision bei der Inspektion dieser hochkomplexen Komponenten zu gewährleisten. Das System besteht aus mehreren Komponenten: einer integrierten Strahlabgabeeinheit für optimale Beleuchtung und Bildgebung, einer Feldabgabepistole für hochauflösende Inspektionen, einem Rückgewinnungsmodul für die Probenvorbereitung und einer mehrachsigen Motormaschine zur Steuerung der Probenposition. Alle diese Komponenten sind in einer robusten und modularen Gehäuseeinheit untergebracht. Dieses proprietäre Design maximiert die Flexibilität und Vielseitigkeit des Werkzeugs und ist somit ideal für den Einsatz in einer Reihe von Halbleiterprozessen und Produktanwendungen. LEICA INS3300 verfügt über eine intuitive benutzerfreundliche Benutzeroberfläche, die es einfach macht, zwischen verschiedenen Betriebsarten wie der automatischen Navigation, einem Overlay-Vergleichswerkzeug und dem Mustervergleich zu wechseln. Auf diese Weise können Ingenieure das Asset schnell konfigurieren, um spezifischen Prüfanforderungen mit Leichtigkeit gerecht zu werden. Darüber hinaus bietet das Modell eine Reihe von anwenderwählbaren Bildverarbeitungsmodi wie Nahaufnahmezoom, maximale Bildgröße und einzelne Chipmasken sowie wiederholbare Prüfparameter und interessierende Bereiche. Einzigartige Merkmale der INS 3300 sind die schnelle Anlaufzeit, die Genauigkeit des Nanometers und die Möglichkeit, große Bereiche abzubilden, ohne die Bildqualität zu beeinträchtigen. Darüber hinaus ermöglicht seine modulare Architektur leicht austauschbare Teile und eine einfache Wartung. Insgesamt ist INS3300 eine hochmoderne Masken- und Wafer-Inspektionsausrüstung, die ein unvergleichliches Maß an Geschwindigkeit, Präzision und Flexibilität bietet. Es ist ideal für den Einsatz in Halbleiter- und Mikroelektronik-Prozessen, bietet schnelle Anlaufzeit und eine Reihe benutzerfreundlicher Bildverarbeitungsmodi für optimale Ergebnisse. Auf diese Weise wird sichergestellt, dass etwaige Mängel schnell und genau und mit minimalen damit verbundenen Energiekosten erkannt werden.
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