Gebraucht LEICA / VISTEC 200 #9092984 zu verkaufen

LEICA / VISTEC 200
ID: 9092984
Microscope.
LEICA/VISTEC 200 ist eine fortschrittliche Masken- und Wafer-Inspektionsausrüstung für die Halbleiterherstellung. Das System verwendet fortschrittliche optische Bildgebungstechnologie, um Masken und Wafer auf Defekte und Kontaminationen zu untersuchen. LEICA 200 eignet sich ideal für Produktion, Forschung und Entwicklung, Diagnostik und Fehleranalyse sowohl für Wafer- als auch für Non-Wafer-Geräte. Die Einheit besteht aus einem hochgenauen, variablen Vergrößerungsmikroskop, mit dem Bilder von Masken oder Wafern aufgenommen werden. Ein 8x Objektiv wird verwendet, um Bilder schnell und genau zu erfassen. Darüber hinaus können die Bilder bis zu 500x vergrößert werden, um Details aufzudecken, die ansonsten nicht nachweisbar wären. VISTEC 200 bietet leistungsstarke Bild- und Datenerfassungsfunktionen, die es dem Benutzer ermöglichen, Masken- und Waferbilder einfach auf Fehler zu analysieren. Die Maschine ist in der Lage, Bilder in einer Reihe von Kontrasten zu erzeugen, einschließlich falscher Farbe, Intensität und Dual-Wellenlänge. Es unterstützt auch eine Vielzahl von Bildverarbeitungstechniken, einschließlich Farbmischung, Raumfilterung und nichtlineare Skalierung. Das Tool verfügt über eine integrierte Fehlererkennung, die verwendet werden kann, um die Bilder auf Fehler wie Linienkantenrauheit (LER), Linienbreitenvariation (LWV) und kleine Brücken (SB) zu analysieren. Das Fehlererkennungsmodell ist anpassbar, und Benutzer können Prüfparameter für verschiedene Arten von Geräten und Konstruktionsregeln definieren. Neben der Inspektion von Masken und Wafern können 200 auch zur Inspektion von Bondpads, Metallflächen, Photomask-Transistoren, Fotovias und mehr verwendet werden. Die Ausrüstung ist mit einer breiten Palette von Masken- und Wafermaterialien kompatibel, einschließlich derjenigen, die in fortgeschrittenen Wafer Level Packaging (WLP) -Prozessen verwendet werden. LEICA/VISTEC 200 ist ein fortschrittliches und äußerst zuverlässiges Masken- und Wafer-Inspektionssystem, das Anwendern verbesserte Leistung, Zuverlässigkeit und Betriebskosten bietet. Durch den Einsatz fortschrittlicher optischer Bildgebungstechnologie kann das Gerät eine Vielzahl von Defekten leicht erkennen, und dies macht es zu einer idealen Wahl für Halbleiterhersteller.
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