Gebraucht LEICA / VISTEC INS 10 #9013488 zu verkaufen

LEICA/VISTEC INS 10 ist eine Top-of-the-Line-Maske und Wafer-Inspektion Ausrüstung entwickelt, um die strengen Anforderungen der Halbleiterherstellung und Wafer-Fertigung Industrie zu erfüllen. Mit seinem innovativen Design und seiner robusten Konstruktion ist das System so gebaut, dass es unter den anspruchsvollsten Betriebsbedingungen läuft. Herzstück des Geräts ist eine hochauflösende Hochgeschwindigkeits-Digitalkamera, die Bilder bis zu einer Auflösung von 1,25 µm aufnehmen kann. Es ist mit einer großen Bibliothek mit spezialisierten Wafer-Fehlererkennungsalgorithmen und Industriestandard-Software sowie einer leistungsstarken Onboard Defect Measurement Unit ausgestattet, die LEICA INS 10 zu einem der genauesten und präzisesten Systeme zur Inspektion von Masken- und Waferdefekten machen. Neben der leistungsstarken bildgebenden Technologie ist die Maschine auch mit einer Vielzahl integrierter Funktionen ausgestattet, die ihr ein breites Spektrum an Inspektionsmöglichkeiten bieten. Es kann Ungleichmäßigkeiten in der Maske und ihren Mustern erkennen, defekte Bereiche unterscheiden sowie Defekte und Partikel erkennen, die zu klein sind, um mit bloßem Auge gesehen zu werden. Das Tool bietet auch eine Reihe von erweiterten Datenverwaltungsfunktionen, die einen einfachen und genauen Bildvergleich und -verfolgung ermöglichen. Seine webbasierte Benutzeroberfläche bietet eine einfache und effiziente Navigation durch die Menüs, so dass auch Anfänger das Asset mit minimalem Aufwand bedienen können. Das Modell wird von einer fortschrittlichen LED-Hintergrundbeleuchtung angetrieben, um eine optimale Bildqualität auch für die anspruchsvollsten Inspektionsanwendungen zu gewährleisten. Dank der integrierten Autofokus- und Autopositionierungsfunktionen bietet es zudem eine überlegene Produktivität. Schließlich verfügt es über leistungsstarke Diagnose- und Kalibrierwerkzeuge, mit denen Bediener die Leistung des Systems in Echtzeit überwachen können. VISTEC INS 10 ist eine innovative und zuverlässige Masken- und Wafer-Inspektionseinheit, die Anwendern hilft, die hohen Anforderungen ihrer Produktionslinien zu erfüllen. Seine leistungsfähige bildgebende Technologie und seine robusten Eigenschaften machen es zu einer optimalen Lösung für die Halbleiter- und Waferherstellung.