Gebraucht LEICA / VISTEC INS 1000 #10628 zu verkaufen

LEICA / VISTEC INS 1000
ID: 10628
Automated Wafer Inspection systems.
LEICA/VISTEC INS 1000 ist eine hochgenaue Masken- und Wafer-Inspektionsausrüstung, die entwickelt wurde, um hochauflösende und genaue Messungen von Schaltungsmerkmalen in einer Vielzahl von Anwendungen bereitzustellen. Das System verfügt über eine hochauflösende CCD-Kamera, einen Laser und eine Optikeinheit, um eine optimale Inspektion von Wafern bei hoher Geschwindigkeit zu ermöglichen. Verbesserungen gegenüber der vorherigen Version dieser Maschine umfassen schnellere Messungen und eine höhere Auflösung. LEICA INS 1000 verwendet eine 1.8K-pixel CCD-Kamera mit einer Pixelgröße von 1,4 Mikron und einer maximalen Auflösung von 0,75 ¼ m, wodurch kleine Defektmerkmale auf der Waferoberfläche erkannt werden können. Der Laser ist in der Lage, einige Nanometer mit einer Genauigkeit von 0,2 - ¼ m zu messen. Das Werkzeug bietet auch die Möglichkeit, leicht ein Bild eines bestimmten Bereichs des Wafers zu erhalten, wo die Analyse durchgeführt werden muss. Dies hilft, Fehler schnell zu überprüfen, ohne den gesamten Wafer zwischen den Messungen bewegen zu müssen. Zusätzlich bietet das Element drei Bewegungsachsen relativ zu einem KE und ermöglicht es dem Bediener, sich zu bewegen, um verschiedene Drehwinkel eines KEs zu kompensieren. Die im Modell enthaltene Software ermöglicht es Benutzern, die Ergebnisse ihrer Messungen schnell zu überprüfen und Berichte zu erstellen. Berichte können in einer Reihe von Formaten wie pdf oder jpg für die einfache Anzeige erstellt werden, oder können in andere Formate für die weitere Analyse exportiert werden. Neben der Waferinspektion können die Geräte auch zur Fehleranalyse verwendet werden. Die Software kann Bilder jeder Art vom zu testenden Gerät analysieren und mögliche Fehler oder Fehler identifizieren. Es bietet außerdem die Möglichkeit, Testergebnisse im Laufe der Zeit zu vergleichen, um Trends zu erkennen und zu vergleichen. Insgesamt bietet VISTEC INS1000 eine präzise und genaue Messung von Merkmalen auf einem Wafer, die qualitativ hochwertige Aufzeichnungen von Fehlern und Fehleranalysen in einer Vielzahl von Geräten und Anwendungen ermöglicht.
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