Gebraucht LEICA / VISTEC INS 2000 #146201 zu verkaufen

LEICA / VISTEC INS 2000
ID: 146201
Wafergröße: 8"
Review stations, 8".
LEICA/VISITEC LEICA/VISTEC INS 2000 ist ein Masken- und Wafer-Inspektionsgerät, das fortschrittliche Optik und Bildverarbeitung kombiniert, um eine genaue, schnelle und automatisierte Inspektion zu ermöglichen. Dieses System hat die Geschwindigkeit, Präzision und Zuverlässigkeit, um den geringsten strukturellen Defekt auf der Oberfläche einer Photomaske oder eines Wafers genau zu erkennen. Das Gerät verwendet eine fortschrittliche hochauflösende, hochvergrößerte optische Maschine, die Fehler bis zu 0,5 µm auf Photomasken und 0,3 µm auf Wafern erkennen kann. Dies ist durch eine Kombination aus LED-Lichtquelle, hoher optischer Leistung, Fluoreszenzdetektion und LED-Beleuchtung möglich. Zusätzlich ist der Mechanismus mit einer motorisierten Strahllenkeinheit ausgestattet, die die Abtastung genau definierter rechteckiger oder kreisförmiger Bereiche zur verbesserten Fehlererkennung ermöglicht. Dieses Werkzeug ist in der Lage, die gesamte Oberfläche einer Maske oder eines Wafers mit hochauflösender, hochgenauer digitaler Bildgebung zu überprüfen. Es kann sowohl Kontaminationen als auch Fehler in den Details eines Bildes sowie Unvollkommenheiten, Kratzer und andere Situationen erkennen, die ansonsten sehr schwierig zu erkennen wären. Der Vermögenswert ist auch in der Lage, Fehlstellungen der Maske oder des Wafers vor der Prüfung automatisch zu korrigieren, indem er die wahren und korrekten Orte aus der Erstaufnahme registriert. Dieses Modell verfügt auch über Hochgeschwindigkeits-automatisierte Fehlerüberprüfung (DR) Fähigkeit. So können Bediener Bilder von erkannten Fehlern schnell analysieren und mit historischen Bildern in der Gerätedatenbank vergleichen. Dies hilft Anwendern, Fehler schnell und genau zu erkennen, was ihre Korrektur und Prävention in Zukunft erleichtern kann. Darüber hinaus ist das System mit erweiterten Datenverarbeitungs- und Analysefunktionen ausgestattet. Dazu gehören Extraktions- und Clustering-Algorithmen sowie das automatische Clustern und Klassifizieren von Bildern. Die erweiterten Berichtsfunktionen der Einheit können umfassende, detaillierte Berichte generieren, die von Benutzern zur Bewertung ihrer Prozesse verwendet werden können. Insgesamt ist VISTEC/VISITEC LEICA INS 2000 eine leistungsstarke, hocheffiziente Masken- und Wafer-Inspektionsmaschine. Es bietet Präzision, Geschwindigkeit und Zuverlässigkeit, um kleinste Fehler auf einer Photomaske oder Waferoberfläche zu erkennen. Die fortschrittlichen Funktionen für digitale Bildgebung und Datenverarbeitung bieten Anwendern die Möglichkeit, ihre Prozesse schnell und genau zu analysieren und zu adressieren, um die Produktqualität in Schleife zu verbessern.
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