Gebraucht LEICA / VISTEC INS 3000 DUV #9047301 zu verkaufen

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ID: 9047301
Wafergröße: 8"
Weinlese: 2003
Defect inspection system, 4" - 8" (2) Open Cassette with tilt mechanism Operator console with track ball joystick OS Window NT4.1, Review S/W: VISCON NT 4.3 SONY CCD DXC990 camera & LCD monitor Motorized X-Y stage Contact-free pre-aligner Objective: 2.5X/0.12 PL Fluotar 10X/0.50 BD HC PL Fluotar 50X/0.85 BD FL PL APO 100X/0.90 BD FL PL APO 150X/0.90 BD FL PL APO Eyepieces: HC PLAN 10X (LEICA) Motorized Beam splitter & DIC LFS Auto Focusing Confocal Image CFI, CF2 Dark Field & Bright Field DUV function: not currently setup 2003 vintage.
LEICA/VISTEC INS 3000 DUV ist eine Hochleistungs-Masken- und Wafer-Inspektionsausrüstung zur Erkennung von Defekten auf dem fortschrittlichsten Wafer-Niveau. Das System verwendet einen hochauflösenden Bildsensor, eine erweiterte Optik und einen erweiterten Steuerungsalgorithmus, um die Kanten und Oberflächen einer Maske oder eines Wafers zu scannen, um eine vollständige fehlerfreie Qualität zu gewährleisten. Das Gerät ist in der Lage, Defekte mit einer Größe von bis zu 10 nm und einer Pixelgröße von 4 Mikrometern zu erkennen. Die fortschrittliche Optik der Maschine ermöglicht eine hochauflösende Bildgebung, die sicherstellt, dass auf der Oberfläche der Maske oder des Wafers vorhandene Fehler erkannt und identifiziert werden. Es kann Bilder mit einer Auflösung von bis zu 12 Megapixel produzieren, was eine genaue Inspektion, die helfen kann, Unregelmäßigkeiten zu erkennen, die sonst schwer zu erkennen. Das Werkzeug hat auch ein maximales Sichtfeld von 6,5 mm und bietet einen breiten Bereich für die Inspektion. Das Asset verfügt auch über einen proprietären Steuerungsalgorithmus, der eine vollständige Automatisierung des Inspektionsprozesses ermöglicht. Auf diese Weise kann der Inspektor das Modell schnell einrichten und an verschiedene Mustergrößen, Formen und Orientierungen anpassen. Dies hilft, zeitaufwendige und langwierige Aufgaben im Zusammenhang mit der Masken- und Waferinspektion zu reduzieren. Der Algorithmus ermöglicht auch eine präzise Geschwindigkeitskontrolle des Inspektionsprozesses, wodurch der Anwender den Durchsatz verbessern kann, ohne die Genauigkeit zu beeinträchtigen. Gleichzeitig verfügt das Gerät über eingebaute Sicherheitsmerkmale, die die Integrität der Inspektion schützen. Es verfügt beispielsweise über eine automatische Ausschaltfunktion zur Minimierung des Stromverbrauchs sowie über ein automatisches Abschaltsystem, das entsprechend den Anforderungen des Benutzers eingestellt werden kann. Das Gerät ist auch so konzipiert, dass es sicher für den Einsatz in gefährlichen Umgebungen ist, da es zertifiziert ist, internationale Sicherheitsstandards für CE, FCC und UL zu erfüllen. Darüber hinaus verfügt die Maschine über ein einfach zu bedienendes Softwarepaket, das einen detaillierten Überblick über die Ergebnisse bietet. Der Benutzer kann das Tool an seine Anforderungen anpassen, da es verschiedene Parameter wie die Mustergröße, den Erkennungsalgorithmus und die Geschwindigkeitseinstellungen enthält. Die aus der Inspektion gewonnenen Daten können problemlos in gängige Bildformate exportiert werden, so dass die Daten weiter verarbeitet und analysiert werden können. Insgesamt ist LEICA INS 3000 DUV eine leistungsstarke Masken- und Waferinspektionsanlage, die eine hohe Genauigkeit bietet und helfen kann, eine vollständige fehlerfreie Qualität zu gewährleisten. Die fortschrittliche Optik und der proprietäre Steuerungsalgorithmus ermöglichen eine Automatisierung des Inspektionsprozesses und eine verbesserte Produktivität, während die Sicherheitsfunktionen eine zusätzliche Schutzschicht bieten. All diese Merkmale machen das Modell zu einem zuverlässigen und effizienten Werkzeug für jede Inspektion oder Qualitätskontrolle.
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