Gebraucht LEICA / VISTEC INS 3000 DUV #9047675 zu verkaufen

LEICA/VISTEC INS 3000 DUV Masken- und Wafer-Inspektionsgeräte sind ein Hochleistungs-optisches Mikroskopsystem, das speziell für die Masken- und Wafer-Inspektion entwickelt wurde. Es bietet die höchste Empfindlichkeit und Auflösung, die für die kritische Prozesskontrolle erforderlich ist. Das Gerät kombiniert ein Hochgeschwindigkeits-Stereomikroskop, einen digitalen Bildprozessor und erweiterte Softwarefunktionen, die die Inspektion von optisch komplexen Masken- und Waferfunktionen mit hoher Genauigkeit und Präzision ermöglichen. LEICA INS 3000 DUV verfügt über ein Hochgeschwindigkeits-Stereomikroskop mit voller Bildrate, das detaillierte 3D-Bilder mit schnellen, ununterbrochenen Beobachtungen liefert. Die Maschine verfügt über eine patentierte kohärente Lichtquelle für optimalen Kontrast und Bildklarheit. Das inkohärente Fokus-Tracking-Tool sorgt für einen optimierten Fokus für jedes Pixel des Detektor-Arrays. Ein automatischer Optimierer passt die Mikroskopparameter in Echtzeit weiter an, um die Bildgebungsleistung zu optimieren. Das Asset verfügt auch über einen integrierten digitalen Bildprozessor, der digitale Bilddateien verarbeitet, speichert und archiviert. Es bietet eine schnelle und leistungsstarke Bildverarbeitung durch automatische Zonierung, interessante Regionen und mehrschichtige Anzeigefunktionen. Die Schnittstelle ermöglicht Flexibilität und kundenspezifische Analyse, um alle Prüfanforderungen zu erfüllen. Die Software ermöglicht es den Betreibern auch, Daten schnell zu analysieren, detaillierte Profile zu erstellen und Bilder zu archivieren. Zusätzlich zu diesen Funktionen verfügt VISTEC INS 3000 DUV über eine 3D-Vektor-Messsuite, die genaue Echtzeitmessungen ermöglicht. Es bietet auch 3D-Farbmatrix und 2D-Messoptionen, die eine Analyse jeder Komponentengröße oder -form ermöglichen. Diese Funktion ermöglicht genaue, wiederholbare Messungen in einer Vielzahl von Anwendungen. INS 3000 DUV ist ein hochentwickeltes Masken- und Wafer-Inspektionsmodell, das höchste Leistung und Genauigkeit bietet. Mit seiner hohen Empfindlichkeit und Auflösung kann er auch kleinste Defekte an Masken und Wafern erkennen. Es bietet schnelle Bildverarbeitung mit hoher Präzision und Detailgenauigkeit und erweiterte Bildverarbeitungsfunktionen für eine effiziente Datenanalyse. Die 3D-Vektormesssuite sorgt für genaue, wiederholbare Messungen. Die Anlage ist ideal für die Prozesssteuerung in industriellen und wissenschaftlichen Anwendungen.