Gebraucht LEICA / VISTEC INS 3300 2ei #9206797 zu verkaufen

ID: 9206797
Wafer inspection system.
LEICA/VISTEC INS 3300 2ei ist eine hochmoderne Masken- und Waferinspektionsanlage, die den höchsten Qualitätsstandards in der Halbleiterindustrie gerecht wird. Es ist eine fortschrittliche automatische Inspektionstechnologie zur präzisen Fehleranalyse über Halbleitermaterialien von Entwicklungs- und Prototypenstufen bis hin zu Fertigungsstufen. Das System verfügt über eine fortschrittliche optische und bildgebende Technologie, die digitale Bilder von Masken- und Waferoberflächen erfasst, die mit hoher Geschwindigkeit gescannt und verarbeitet werden. Kompatibel mit verschiedenen Systemen bietet es umfassende 4D-Inspektionsmöglichkeiten mit einem Sichtfeld von bis zu 17,6 mm. Die Software verfügt über integrierte KI und Mustererkennungstechnologien, die eine automatisierte Mustererkennung und Fehlererkennung/-klassifizierung ermöglichen. Mit Hilfe der fortschrittlichen 3D-Nähtechnologie können Anwender Bilder von Mustern mit Submikron-Genauigkeit in voller Ober- und Seitenansicht aufnehmen. LEICA INS 3300 2ei bietet auch eine breite Palette von hochempfindlichen Bildgebungs- und Analysewerkzeugen, um maximale Genauigkeit und Zuverlässigkeit der Fehlererkennung zu gewährleisten. Minimale Erkennungszeit wird durch hohe Geschwindigkeit, geräuscharmes Inspektionsverfahren gewährleistet. Eine umfassende Fehleranalyse inklusive Fehlerlokalisierung, Seitenansichtsanalyse und Messung steht dank fortschrittlicher Algorithmen zur Verfügung. Die benutzerfreundliche grafische Oberfläche ermöglicht die vollständige Steuerung der Geräteeinstellungen und die Konfiguration von Prozessparametern für unterschiedliche Anforderungen. Die weichprogrammierbaren Parameter sind ideal für die Prozessoptimierung und ermöglichen eine schnelle Anpassung an Änderungen im Produktmix. Die Maschine kann auch in Leitungsüberwachungssysteme zur vollständigen Rückverfolgbarkeit integriert werden. Zusammenfassend ist VISTEC INS 3300 2ei ein fortschrittliches Masken- und Wafer-Inspektionswerkzeug, das speziell für die Halbleiterindustrie entwickelt wurde. Die Kombination aus leistungsstarken Bildgebungs- und Analysefähigkeiten und umfassender Fehleranalyse macht es ideal für hochwertige Produktionsprozesse. Die automatisch programmierbaren Funktionen machen es einfach, Vermögensleistung einzurichten und zu erhalten, und die Integration in Linienüberwachungssysteme macht es für die Rückverfolgbarkeit geeignet.
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