Gebraucht LEICA / VISTEC INS 3300 #191088 zu verkaufen

Die Masken- und Waferinspektionsausrüstung LEICA/VISTEC INS 3300 wurde entwickelt, um Lithografiemasken und Wafer mit einem modularen, hochempfindlichen Inspektionswerkzeug schnell zu inspizieren. Das System ist gut geeignet für die Inspektion von Halbleiterprodukten nach der Herstellung und späten Konstruktionszyklen, um sicherzustellen, dass einzelne Komponenten und Baugruppen die Spezifikationen für Produktintegrität und -zuverlässigkeit sowie während der Reparatur/Nacharbeit erfüllen. Die Inspektionseinheit LEICA INS 3300 bietet Hochgeschwindigkeits- und Hochauflösungsbilder mit einer automatisierten Vollfeld-Bildverarbeitungsmaschine. Das Tool wird von einer CCD-Kamera angetrieben, die sowohl 2D- als auch 3D-Bilder aufnehmen kann, und verwendet eine motorisierte Waferstufe, die eine präzise Ausrichtung von Maske und Wafer ermöglicht. Die automatisierte Bildnahttechnologie gewährleistet eine kontinuierliche Inspektion des gesamten Bereichs in jeder Geschwindigkeit oder jedem Muster und reduziert die Anzahl der Inspektionsstellen bei gleichzeitiger Verbesserung der Bildleistung. VISTEC INS 3300 asset bietet auch eine Vielzahl von Hochleistungs-Software-Tools für die Nachbearbeitung und Analyse von aufgenommenen Bildern. Die Software enthält Fehlerklassifizierungsalgorithmen zur schnellen Identifizierung von Anomalien, Kontrastoptimierungswerkzeuge zur Hervorhebung von Defekteigenschaften und leistungsstarke optische Filter, mit denen Benutzer Farb- und Kontraststufen für eine verbesserte Auflösung anpassen können. Benutzer können auch eine Vielzahl von Bildanalysetools anwenden, um Zielfehler an Masken und Wafern zu identifizieren und zu überprüfen. Die fortschrittliche, benutzerfreundliche Oberfläche des INS 3300-Modells bietet eine breite Palette von Funktionen und Optionen zur Anpassung des Inspektionserlebnisses. Das Gerät bietet automatische Erfassungs- und Analysetools, mit denen Benutzer maßgeschneiderte Inspektionsroutinen entwerfen können, mit Parametern, die konfiguriert werden können, um das Inspektionsverfahren zu optimieren. Darüber hinaus bietet das System auch ein leistungsfähiges Reporting-Tool, um die Protokollierung und Überprüfung von Inspektionsdaten zu ermöglichen. Insgesamt bietet die Masken- und Waferinspektionseinheit LEICA/VISTEC INS 3300 zuverlässige und umfassende Inspektionsmöglichkeiten für Halbleiterprodukte und andere Produktionsanforderungen, die Genauigkeit und Geschwindigkeit erfordern. Mit seiner hochauflösenden Bildgebung, fortschrittlichen Software-Tools, einfach zu bedienenden Schnittstelle und anpassbaren Funktionalität ist die Maschine die perfekte Wahl für jeden Inspektions- oder Qualitätsprozess.