Gebraucht LEICA / VISTEC INS 3300 #9043662 zu verkaufen
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ID: 9043662
Wafergröße: 8"
Weinlese: 2003
Wafer inspection system, 8"
Hard Disk Drive (HDD) missing
2003 vintage.
LEICA/VISTEC INS 3300 ist eine vielseitige Masken- und Wafer-Inspektionsanlage für die Top-Down oder Bottom-Up Inspektion. Es bietet maximale Flexibilität mit Modularität und Skalierbarkeit, sodass Benutzer mit einer grundlegenden Konfiguration beginnen und im Laufe der Zeit erweiterte Optionen hinzufügen können, um ihren sich ändernden Anforderungen gerecht zu werden. Das System ist in der Lage, eine breite Palette von Inspektionen, mit einer maximalen Auflösung von 0,25 µm über seinen gesamten Belichtungsbereich von 0,8 - 6.5keV. Features wie Depth of Focus Control (DoFC) und 90 ° automatisches Nähen machen es ideal für die Inspektion von Proben mit unebenen Topographien oder anspruchsvollen Oberflächen. LEICA INS 3300 ist mit einer vielseitigen Stufe ausgestattet, die bis zu zwei 200mm oder einen 300mm Wafer hält und eine automatische Ausrichtung für Multi-Chip-Mapping sowie die Möglichkeit bietet, denselben Wafer zweimal zu überprüfen. Es kann auch eine Vielzahl von Maskengrößen mit einem beweglichen Maskentisch unterbringen, der eingestellt werden kann, um sowohl positive als auch negative Polaritätsmasken zu halten. High-End-Automatisierungsfunktionen und Fehlerüberprüfungsfunktionen bieten Benutzern ein leistungsfähiges und effizientes Tool zur Identifizierung und Klassifizierung von Fehlern. Darüber hinaus bietet das Gerät eine vielseitige und fortschrittliche Maschine zur Messung elektrischer und optischer Eigenschaften von Mustern oder Substraten. Dazu gehören automatisierte elektrische Messsysteme wie die Digital Pattern Analysis (DPA) und der Digital Image Scanner (DIS), die es Anwendern ermöglichen, elektrische Bilder schnell zu erfassen und zu analysieren. Diese Systeme können auch für optoelektronische Messungen eingesetzt werden, indem sie mit dem Mehrwellenlängen-Photomasken-Aligner kombiniert werden. Insgesamt ist VISTEC INS 3300 ein leistungsstarkes, vielseitiges und einfach zu bedienendes Werkzeug zur Masken- und Waferinspektion. Es ist in der Lage, eine Vielzahl von Inspektionen, und kann leicht angepasst werden, um veränderten Bedürfnissen gerecht zu werden. Es ist ideal für Labore, die nach einem robusten, aber kostengünstigen Asset suchen und eine schnelle und genaue Analyse der kompliziertesten Muster und Substrate ermöglichen.
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