Gebraucht LEICA / VISTEC INS 3300 #9043670 zu verkaufen

LEICA/VISTEC INS 3300 Maske & Wafer Inspection Equipment ist für die effiziente Analyse von Masken und Wafern konzipiert. Es eignet sich zur Untersuchung von optischen Maskenmustern und kritischen optischen Schaltungselementen in Fertigungs-, Forschungs- und Entwicklungsstufen der Halbleiterherstellung. LEICA INS 3300 ist für maximale Arbeitsflussintegration konzipiert und ermöglicht die Integration in bestehende Produktionslinien. Das optische System besteht aus einer CCD-Kamera, einem hochauflösenden LCD-Monitor, einer präzisen x-y-z-Neigungsstufe und einer hocheffizienten optischen Einheit mit einem Immersionsobjektiv und einer Mittelkorrektureinrichtung. Die Maschine kann in Verbindung mit optionaler Mikroskopie- und Bildgebungssoftware (z.B. LEICA MOM Suite) eingesetzt werden und ist damit ein ideales Werkzeug für die Prozessüberwachung und Fehlerinspektionen. Das Werkzeug VISTEC INS 3300 bietet eine breite Palette von Messfunktionen von einfachen manuellen Inspektionen bis hin zu vollautomatischen Inspektionsabläufen. Die fortgeschrittenen Inspektionsalgorithmen erkennen Fehlfunktionen in Masken und Wafern, die für das Auge nicht sichtbar sind, wie Verunreinigungen, verunreinigungsbedingte Defekte, unerwartete Gruben, Fremdkörper, Partikel oder isolierte Stellen. Darüber hinaus verfügt das Asset über eine einzigartige „Edge Trail“ -Funktion, die eindeutig die äußere Kante eines Wafers oder einer Maske anzeigt. Das INS 3300 Mask & Wafer Inspection Model bietet zwei Scan-/Auflösungsoptionen und zwei Fokusoptionen. Die hochauflösende Option bietet eine Bildauflösung von 0,2 µm und eine Scangeschwindigkeit von 300 Zeilen/s. Die Grundauflösung bietet eine Bildauflösung von 0,8 µm und eine Scangeschwindigkeit von 200 Zeilen/s. Die Fokusoption kann auf manuellen oder automatischen Modus eingestellt werden; im manuellen Modus kann der Benutzer den Fokus manuell einstellen, und im automatischen Modus fokussiert sich das Gerät automatisch auf die Objektoberfläche. Das System umfasst auch hochwertige Komponenten wie eine integrierte Hintergrundbeleuchtung für eine helle, gleichmäßige Beleuchtung. Eine integrierte Kühlkomponente sorgt auch bei höheren Temperaturen für eine stabile und zuverlässige Maschinenleistung. Darüber hinaus entspricht LEICA/VISTEC INS 3300 Mask & Wafer Inspection Tool internationalen Standards wie SEMI-S2 und CENELEC-EN50660-2. LEICA INS 3300 Mask & Wafer Inspection Asset ist ein anspruchsvolles Inspektionsmodell und bietet qualitativ hochwertige Leistung in den anspruchsvollsten Wafer- und Maskeninspektionsaufgaben. Es bietet viele erweiterte Funktionen für schnelle, genaue und wiederholbarkeitskritische Untersuchungen. All diese Merkmale, zusammen mit seiner einfachen Integration in größere Systeme, machen VISTEC INS 3300 Geräte zu einer ausgezeichneten Wahl für die umfassendsten und zuverlässigsten Masken- und Wafer-Inspektionen.