Gebraucht LEICA / VISTEC INS 3300 #9121040 zu verkaufen

LEICA/VISTEC INS 3300 ist eine hochmoderne Masken- und Waferinspektionsanlage, die für die anspruchsvollsten Halbleiterherstellungsanwendungen entwickelt wurde. Mit seinen fortschrittlichen Optik- und Automatisierungstechnologien ermöglicht es eine schnelle, genaue, wiederholbare und zuverlässige Inspektion. LEICA INS 3300 nutzt ein einzigartiges servobasiertes Stufensystem mit hochpräzisen Encodern, um Position, Orientierung und Vergrößerung des Probenwafers genau zu steuern. Dies sorgt für konsistente Ergebnisse bei den unterschiedlichsten Herausforderungen. Das Gerät ist mit einer hochentwickelten Bildverarbeitungsmaschine ausgestattet, die hohe Auflösung, schnelles Scannen und hohen Kontrast für eine detaillierte Fehlererkennung bietet. Es ist mit einer Reihe leistungsfähiger Bildanalyse-Algorithmen ausgestattet, die eine zuverlässige, wiederholbare und genaue Fehlererkennung und -charakterisierung ermöglichen. Neben dem fortschrittlichen Optik- und Imaging-Tool verfügt VISTEC INS 3300 über eine leistungsstarke Automatisierungsanlage, die es ermöglicht, eine große Anzahl von Wafern in kurzer Zeit zu bearbeiten. Das Modell ist mit Werkzeugkalibrierung und Waferkalibrierung ausgestattet, die es Anwendern ermöglichen, den Prozess anzupassen, um die höchstmögliche Genauigkeit und Wiederholbarkeit zu gewährleisten, ohne den Durchsatz zu verlieren. Darüber hinaus bietet die INS 3300 eine intuitive und ergonomische Benutzeroberfläche, mit der Sie die Geräte einfach steuern und Bilder analysieren können. Das System ist auch mit leistungsstarken Datenverarbeitungsfunktionen ausgestattet, mit denen Benutzer schnell Ergebnisse analysieren und detaillierte Berichte erstellen können. Dadurch wird sichergestellt, dass Mängel schnell erkannt und behoben werden und die Produktionsausbeuten maximiert werden. Insgesamt ist LEICA/VISTEC INS 3300 eine leistungsstarke, zuverlässige und einfach zu bedienende Masken- und Wafer-Inspektionseinheit. Es ist für den Einsatz mit einer Vielzahl von Halbleiterproduktionsprozessen konzipiert und ermöglicht es Benutzern, die höchstmögliche Genauigkeit, Geschwindigkeit und Wiederholbarkeit zu erreichen.