Gebraucht LEICA / VISTEC INS 3300 #9192641 zu verkaufen

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ID: 9192641
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2002
Wafer defect inspection system, 12" Glass size: 12" Main parts: Main body Loader unit Currently warehoused 2002 vintage.
LEICA/VISTEC INS 3300 ist eine hochpräzise und automatisierte Masken- und Wafer-Inspektionsanlage für die Halbleiterforschung und -fertigung. Es ist in der Lage, mit Maskengrößen von 8 Zoll (20,5 cm) bis 12 Zoll (30,5 cm) zu arbeiten und bietet sowohl optische als auch Röntgeninspektion. Die optische Inspektion verwendet eine hochempfindliche wissenschaftliche CCD-Kamera und ein austauschbares Linsensystem und erkennt automatisch Defekte wie Kratzer und ortsspezifische Defekte. LEICA-Einheit konzentriert sich auf die höchste Genauigkeit, mit dynamischen Video-Auto-Messung (DVAM) -Technologie und fortschrittliche Computersoftware, um die Genauigkeit der Erkennung und Messung zu gewährleisten. Für die Röntgeninspektion verfügt LEICA INS 3300 über eine hochmoderne Mikrofokus-Röntgenquelle und eine variable Spotgröße, die eine defektspezifische Bildgebung ermöglicht. Darüber hinaus ist die Maschine in der Lage, Zwischenschichtfehler und Grabfehler von Silizium-Wafern zu erkennen, so dass es ideal für fortgeschrittene Prozesse. Weitere Funktionen, die es zu einem Top-of-the-Line-Inspektionswerkzeug machen, sind ein Full-HD-LCD-Monitor, ein Touchscreen-Bedienfeld und ein erweitertes Wafer-Handling-Element. Das High-End-Inspektionsmodell verfügt außerdem über einen automatischen Ausrichtungskorrekturspitzensatz zur Ausrichtung mehrerer Muster. Daten können schnell über USB und Softwareschnittstelle übertragen und zur weiteren Analyse auch auf einen Computer heruntergeladen werden. Die anpassbaren Benutzeroberflächen, selbstdiagnostischen Programme und automatischen Warnungen von VISTEC INS 3300 machen es schließlich zu einer benutzerfreundlichen Ausrüstung, die den Inspektionsprozess vereinfacht. Mit zuverlässiger Leistung, umfassender Fehlererkennung und hoher Genauigkeit ist die INS 3300 ein effektives und kostengünstiges Masken- und Wafer-Inspektionssystem für Anwendungen in der Halbleiterindustrie.
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