Gebraucht LEICA / VISTEC INS 3300 #9200027 zu verkaufen

LEICA/VISTEC INS 3300 Masken- und Wafer-Inspektionsausrüstung ist ein führendes spezielles Inspektionssystem für die Inspektion und Charakterisierung von Fotomasken und Wafern. Dieses Gerät wurde entwickelt, um automatisierte ADC (Inspektions- und Messalgorithmen) sowie fortschrittliche Messtechniken außerhalb der Ebene zu verwenden. Die Maschine verfügt über einen einzigartigen automatisierten Maskeninspektionsprozess zur Analyse der Foliendicke in der Ebene sowie zur Überprüfung der Gesamtleistung der Maskeneigenschaften. Das Werkzeug ist mit optischen Komponenten, einer Beispielstufe und einer Hochleistungs-CCD-Videokamera konfiguriert. Ein automatisierter Inspektor verfügt über einen Laserpositionierer und einen beweglichen Kopf. Die Scan- und Messfunktionen ermöglichen automatische Ausrichtungen und verfügen über einen erweiterten Fehlersuchprozess für eine verbesserte Genauigkeit und einen höheren Durchsatz. Der Vermögenswert kann auch eine detaillierte Abbildung der Flachheit und Fehlercharakterisierung von Wafern unterschiedlicher Größe und verwandten Materialien bereitstellen. Die Wafer-Bildgebung wird durch die Kombination von optischer und Röntgenmikroskopie unterstützt, um Bilder in nahezu atomarer Auflösung zu erfassen. Die Kartierungsauflösung reicht auch aus, um eine detaillierte Analyse durchzuführen, die eine Bestimmung der Oberflächentopographie und der Fehlerstelle auf dem Wafer ermöglicht. In Bezug auf die Prozesssteuerung bietet LEICA INS 3300 eine professionelle Rückkopplungssteuerung zur Steuerung der Temperatur- und Leistungsproduktion der Wafer und Materialien. Auf diese Weise wird sichergestellt, dass das bestmögliche Bild aufgenommen wird und gleichzeitig eine präzise topographische Interaktion zwischen den Merkmalen auf dem Wafer ermöglicht wird. Das Modell wurde nach strengsten Qualitätsstandards hergestellt und stellt sicher, dass Proben höchster Genauigkeit erreicht werden. Es wurde zusätzlich für die anspruchsvollsten Inspektions- und Testumgebungen entwickelt, mit einer ASCII/RS232 Schnittstelle zur Kommunikation mit externen Systemen sowie einem robusten Umweltgehäuse für einen erhöhten Schutz der Anlagenkomponenten. Insgesamt ist das VISTEC INS 3300 Masken- und Wafer-Inspektionssystem eine High-End-Einheit zur fortschrittlichen Inspektion und Charakterisierung von Fotomasken und Wafern. Die Kombination aus automatisierter Inspektion, Messung und Feedback-Steuerung schafft eine zuverlässige und effiziente Maschine für hochgenaue Abbildungsergebnisse.