Gebraucht LEICA / VISTEC INS 3300 #9204044 zu verkaufen

Die Masken- und Wafer-Inspektionsgeräte LEICA/VISTEC INS 3300 sind ein hochmodernes System, mit dem eine Vielzahl von Geräten, einschließlich Masken, Wafern und Retikeln, überprüft werden können. Das Gerät ist ideal für Produktions- und F & E-Zwecke. Zu den Hauptmerkmalen der Maschine LEICA INS 3300 gehören ein fortschrittliches Bildgebungswerkzeug, leistungsstarke Inspektionsalgorithmen und hochpräzise Datenanalysetools. Die Anlage ist mit einem fortschrittlichen, automatisierten optischen Bildgebungsmodell ausgestattet, das die beste aktuelle Bildgebungstechnologie verwendet. Dieses Gerät ist in der Lage, eine sehr hochauflösende Bildgebung bereitzustellen und kann auf Wafern mit einem Durchmesser von bis zu 12 Zoll arbeiten. VISTEC INS 3300 verfügt auch über leistungsstarke Inspektionsalgorithmen, die in der Lage sind, Fehler an der Oberfläche des Wafers, der Maske oder des Retikels präzise und schnell zu identifizieren. Dieses System verwendet eine Vielzahl fortschrittlicher Algorithmen, um eine Vielzahl verschiedener Arten von Defekten zu identifizieren, z. B. feine Partikel, Kratzer und Pinholes. Darüber hinaus ist das Gerät mit einem leistungsfähigen Datenanalysetool ausgestattet. Dieses Tool ist in der Lage, die Qualität der Bilder und Ergebnisse aus dem Inspektionsprozess genau zu beurteilen. Das Tool kann so konfiguriert werden, dass Daten in einer Vielzahl benutzerfreundlicher Formate wie Histogramme, Grafiken, Tabellen und mehr angezeigt werden. Mit all diesen Daten kann dann die Qualität des geprüften Gerätes sehr genau bestimmt werden. Darüber hinaus wurde die Maschine INS 3300 mit höchster Zuverlässigkeit und Robustheit konstruiert. Das Werkzeug wurde gründlich getestet und seine Ergebnisse haben sich als konsistent und genau erwiesen. Dadurch wird sichergestellt, dass der Vermögenswert über lange Zeiträume zuverlässig und effektiv arbeitet. LEICA/VISTEC INS 3300 ist ein hochentwickeltes und zuverlässiges Modell, das sowohl für die Produktion als auch für F & E-Anwendungen geeignet ist. Es ist in der Lage, präzise und genaue Ergebnisse mit seinen fortschrittlichen bildgebenden Geräten, leistungsstarken Inspektionsalgorithmen und Datenanalyse-Tools zu liefern. Dieses System ist eine gute Wahl für diejenigen, die eine zuverlässige und hochwertige Masken-, Wafer- oder Retikel-Inspektionseinheit suchen.