Gebraucht LEICA / VISTEC LDS 3000 #293628458 zu verkaufen

LEICA/VISTEC LDS 3000 ist eine automatisierte laserbasierte Masken- und Wafer-Inspektionsanlage zur Herstellung hochwertiger Halbleiterbauelemente. Dieses System verwendet proprietäre optische Technologie und fortschrittliche bildgebende Systeme, um eine fehlerfreie Inspektion und Reparatur von Photomasken und Wafern zu erreichen. Es verfügt über drei verschiedene optische Pfade, jeder entworfen, um eine andere Aufgabe zu erfüllen. Der erste Pfad dient der Inspektion von Masken und Wafern bei geringer Vergrößerung und ist in der Lage, Defekte so klein wie ein Mikrometer zu erkennen. Der zweite Weg ist für die Fehleruntersuchung bei hoher Vergrößerung optimiert und kann Defekte bis auf 0,2 Mikrometer beheben. Der dritte Pfad ist für eine verbesserte Auflösung von Defekten bei extrem hoher Vergrößerung optimiert und kann Defekte bis zu 0,1 Mikrometer erkennen. LEICA LDS 3000 ist in der Lage, zwei Arten von Defekten zu identifizieren: Knoten an der Maske und Partikel am Wafer. Es kann Fehler durch die Rückseitenausrichtung, Photomasken-Fehlstellung, Partikelverschmutzung und optische Defekte wie fehlende Elemente und abrupte Änderungen der Reflexion erkennen. Es kann auch Fehler erkennen, die durch dünne/dicke Elemente, fehlende Elemente, Schalungsfehler und Fehlausrichtung verursacht werden. Das Gerät umfasst auch optische Inspektionstechnologien wie spektrale Bildgebung, Polarisationsbildgebung und differentielle Bildgebung, um die Fehlererkennungsfähigkeit zu maximieren. VISTEC LDS 3000 ist eine vollautomatische Maschine mit einem austauschbaren Blendenwerkzeug und einer intuitiven Benutzeroberfläche. Es kann sowohl in automatisierten als auch in manuellen Prüfmodi verwendet werden. Der automatisierte Prüfmodus ist optimal für die Produktion, während der manuelle Modus am besten geeignet ist, eine kleine Untermenge detaillierter Fehler zu identifizieren. LDS 3000 hat die Fähigkeit, Maskendaten zu speichern, so dass zukünftige Analyse der Daten und hilft, die gesamte Produktionszeit zu reduzieren. Darüber hinaus verfügt das Asset über ein Ausrichtungsmodell sowohl für die Maske als auch für Wafer. Dies ermöglicht eine schnelle Rüstzeit und eine enge Nachführung der Masken und Wafer während des Betriebs. LEICA/VISTEC LDS 3000 wurde entwickelt, um die Gesamtproduktionskosten zu minimieren, die Markteinführungszeit zu reduzieren und die Qualitätskontrolle zu maximieren. Die Hochgeschwindigkeitsbearbeitungszeit und die erweiterten bildgebenden Funktionen machen es zu einem der fortschrittlichsten Inspektionssysteme, die derzeit auf dem Markt verfügbar sind. Dieses Gerät eignet sich ideal für die Produktion von Hochleistungsgeräten mit begrenztem Platzbedarf, da es eine effiziente und zuverlässige Erkennung niedriger Defekte in Photomasken und Wafern ermöglicht.