Gebraucht LEICA / VISTEC LDS 300M #9249428 zu verkaufen

LEICA/VISTEC LDS 300M ist eine High-Tech-Maske und Wafer Inspektion Ausrüstung, die entworfen wurde, um die fortschrittlichen Bedürfnisse der Photomaske und Wafer Hersteller zu erfüllen. Das System ermöglicht eine schnelle, genaue und detaillierte Fehlererkennung. LEICA LDS 300M kombiniert fortschrittliche Laserdioden-Scanning (LDS) -Technologie mit leistungsfähiger Bildgebungssoftware, um Fehler bis zu 0,6 μ m zu erkennen. VISTEC LDS 300M ist entworfen, um einfach 200mm und 300mm Größe Masken und Wafer zu überprüfen, mit einem maximalen Sichtfeld von 25 mm x 25 mm und einer maximalen Auflösung von 3 μ m. Durch die automatische Kalibrierung des Geräts wird sichergestellt, dass die geprüften und Referenzphotomasken für eine detaillierte Visualisierung und Fehleranalyse präzise ausgerichtet sind. Die einzigartige Beleuchtungsmaschine von LDS 300M umfasst Variable Triangle und Variable Pulse Imaging™, die kontrastreiche, hochauflösende Bilder aus variablen Winkeln und variabler Impulsbeleuchtung bereitstellt. Dadurch wird sichergestellt, dass Defekte, auch kleine Drifts und Mikrorisse, sicher erkannt und analysiert werden. Darüber hinaus kann LEICA/VISTEC LDS 300M Inspektion, Überprüfung und Analyse großer Bereiche mit hoher Geschwindigkeit, Genauigkeit und Zuverlässigkeit durchführen. LEICA LDS 300M verfügt auch über erweiterte Tools zur Fehlerklassifizierung, einschließlich Algorithmen zur automatischen Identifizierung von Anomalien in den geprüften Masken und Wafern. Das erweiterte Softwarepaket des Tools enthält mehrere Klassifizierungsdokumente, die schrittweise Anweisungen zum Einrichten und Analysieren von Testergebnissen enthalten. Darüber hinaus können die Prüfergebnisse von VISTEC LDS 300M als JPEG-Dateien auf Kassettenband gespeichert und über USB exportiert werden. LDS 300M ist eine leistungsfähige und zuverlässige Anlage, die entwickelt wurde, um selbst kleinste Fehler in der Photomaske- und Wafertechnologie zu erkennen und zu analysieren. Die fortschrittlichen LDS- und Bildgebungstechnologien des Modells sorgen in Kombination mit intuitiver Software und benutzerfreundlichen Betriebssystemen für eine genaue Fehlererkennung und -analyse. Darüber hinaus ist LEICA/VISTEC LDS 300M die ideale Lösung für Hersteller von Photomasken und Wafern, die eine zuverlässige, leistungsstarke Masken- und Wafer-Inspektionsausrüstung suchen.