Gebraucht LEICA / VISTEC LDS 3300M #9394051 zu verkaufen

ID: 9394051
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2006
Inspection system, 12" 2006 vintage.
LEICA/VISTEC LDS 3300M ist eine umfassende Masken- und Wafer-Inspektionsanlage mit automatisiertem Scannen von Photomasken und Lithographiewafern. Das System ist schnell und effektiv bei der Erkennung von Defekten auf einer Vielzahl von Produktionssubstraten. Es ist in der Lage, Wafer mit einem Durchmesser von bis zu 12 Zoll mit einer Vielzahl von Abbildungsmodi zu inspizieren, einschließlich Hellfeld, Dunkelfeld, Übertragung und Streuung. LEICA LDS3300M verwendet einen digitalen Signalprozessor und eine Laserdiode, um das reflektierte Muster aus der Maske oder dem Wafer schnell mit einem hochauflösenden Referenzbild zu vergleichen. Es ist eine sehr vielseitige Einheit, die in einer Vielzahl von Produktionsschritten zur Qualitätskontrolle und Fehlererkennung fähig ist. Die Maschine kann automatisch bis zu 50 Wafer pro Stunde scannen und identifiziert jede Abweichung in den Musterbildern. Das Tool verfügt über eine intuitive Software-Oberfläche, so dass es einfach ist, Inspektionsparameter und Einstellungen anzupassen. VISTEC LDS 3300 M unterstützt mehrere Konfigurationsoptionen, so dass Benutzer Detektoren, Größenparameter und andere Einstellungen feinabstimmen können. Es unterstützt auch eine breite Palette von Ausrichtungsmethoden, die ein effizientes automatisiertes Scannen ermöglichen. Zusätzlich wird LDS 3300M mit einem leistungsstarken Analysemotor geliefert. Dieser Motor kann verschiedene Arten von Fehlern erkennen und klassifizieren, einschließlich Kantenunregelmäßigkeiten, Störungen, gebrochene Muster und andere. Anhand dieser Daten können dann umfassende Berichte zur Bewertung und Durchführung von Korrekturmaßnahmen erstellt werden. Das Asset zeichnet auch detaillierte Anzeigeinformationen wie Größe, Typ und Position von Fehlern auf, sodass Benutzer ihre Untersuchungsergebnisse visualisieren und quantifizieren können. LEICA/VISTEC LDS3300M ist eine ausgezeichnete Wahl für die Inspektion von Photomasken und Lithographiewafern. Es ist zuverlässig, präzise und benutzerfreundlich, was es zu einer gut geeigneten Wahl für jede Produktionseinstellung macht. Das Modell ist gut ausgestattet, um eine Vielzahl von Inspektionsaufgaben zu bewältigen und sicherzustellen, dass das Endprodukt frei von potenziell beschädigenden Defekten ist.
Es liegen noch keine Bewertungen vor