Gebraucht LEICA / VISTEC LWS 2000 #9115819 zu verkaufen

LEICA/VISTEC LWS 2000 Mask & Wafer Inspection Equipment ist ein vielseitiges, leistungsstarkes Instrument, das für die genaue Inspektion von Fotomasken oder Wafern entwickelt wurde. Das System verfügt über einen automatisierten Maskenausrichter (AMat) mit einer präzisen 500mm x 500mm-Stufe und einer hochauflösenden, verzerrungsarmen Kamera, um eine qualitativ hochwertige Bildgebung zu gewährleisten. LEICA LWS 2000 verfügt zudem über einen High-End-Scankopf, der ein großes Sichtfeld in einem einzigen Rahmen erfassen kann. Die integrierte Optikeinheit wurde optimiert, um den Wafer/die Maske während der Bildgebung genau auszurichten und so genaue Messungen zu gewährleisten. Die On-Board-Ausrichtungssoftware ermöglicht es Anwendern, Fokus schnell und genau zu etablieren und anzupassen. Die Mask & Wafer Inspection Maschine verfügt über eine intuitive grafische Benutzeroberfläche, mit der Benutzer auf eine Reihe leistungsstarker Algorithmen zugreifen können, um aufgenommene Bilder zu analysieren. Die integrierten Metrologiewerkzeuge können zur Auswertung des Lithographieprozesses, zur Erkennung von Fehlern wie Musterkanten- oder Musterkreuzungsfehlern und zur genauen Abschätzung der kritischen Abmessungen von Mustern eingesetzt werden. Erweiterte Näh- und automatisierte Qualifizierungstools ermöglichen es Anwendern, schnell eine Reihe von Parametern auszuwerten, die für die Waferqualifizierung erforderlich sind. Das Werkzeug ist auch in der Lage, Farbe, Defekte, Partikel, Anomalien, Fremdmaterialien und andere Variablen zu erkennen. Es ist mit einem vollständig konfigurierbaren Satz integrierter Beleuchtungsoptionen ausgestattet, die eine zuverlässige Fehlererkennung in beliebigen Geometrien und Merkmalen ermöglichen. Darüber hinaus nutzt das Asset eine Reihe integrierter Algorithmen, um eine schnelle Fehlererkennung und -berichterstattung zu ermöglichen. Seine blitzschnellen Bildgebungsfunktionen ermöglichen es Anwendern, große Waferbereiche schnell und effizient zu analysieren. Darüber hinaus bietet VISTEC LWS 2000 einen leistungsstarken Satz mathematisch orientierter Werkzeuge, mit denen Wafer-Funktionen präzise analysiert, Fehler identifiziert und bestimmte Parameter gemessen werden können. Benutzer können diese Messungen im absoluten, relativen oder gemischten Modus durchführen, was eine weitere Analyse und Verbesserung ermöglicht. Weiterhin sind integrierte Mustererkennungsalgorithmen in der Lage, Anomalien in komplexen Konstruktionsstrukturen zu erkennen. Dieses Modell ist ideal für jede Anwendung, die genaue Wafermessung und Fehlererkennung erfordert.