Gebraucht LEICA / VISTEC MIS 200 #293671054 zu verkaufen

LEICA/VISTEC MIS 200 Mask and Wafer Inspection System ist ein vollautomatisiertes Metrologie-Instrument, das für den Einsatz in der Halbleiterindustrie entwickelt wurde. Sein Hauptziel ist es, Fehler und Unvollkommenheiten in lithographischen Masken oder Wafern schnell und genau zu erkennen. Es bietet punktgenaue Genauigkeit, hohen Durchsatz und zuverlässige Datenerfassung. Das System ist mit fortschrittlichen optischen Abbildungen, Röntgenlichtemissions- und Detektionssystemen sowie robusten Algorithmen zur Fehlererkennung ausgestattet. Es ist für einen effizienten Betrieb konzipiert und kann leicht in andere erweiterte Werkzeuge integriert werden. LEICA MIS 200 enthält ein Laser Confocal Microscope, um zweidimensionale (2D) Bilder bereitzustellen, die einen hervorragenden Kontrast zwischen den Merkmalen der Maske oder des Wafers aufweisen. Die Auflösung der abgetasteten Bilder kann 200 Nanometer (nm) erreichen, die mikroskopische Defekte effektiv erkennen können. Zusätzlich wird die vierdimensionale (4D) Scanning Röntgenmikroskopie (SXM) verwendet, um dreidimensionale (3D) Defekte oder topologische Veränderungen im Material zu erkennen. Mit Röntgentechnologie lassen sich bis zu 1000 nm Auflösung beim Scannen auf einer größeren Fläche erzielen. VISTEC MIS 200 verfügt zudem über einen UV-Filter, der eine Inspektion im UV-Bereich ermöglicht. Dieses Merkmal ermöglicht die Visualisierung der UV-Lichtreflexionsunterschiede zwischen den Defekten und dem Wafermaterial. Sowohl Vorwärts- (FS) als auch Dunkelfeld (DF) -Bildgebungsoptionen können ausgewählt werden, um die Oberfläche des betreffenden Wafers oder der betreffenden Maske am besten zu analysieren. Der Defektdetektor ist programmiert, um die eingehenden Daten auszuwerten und eventuelle Unzulänglichkeiten zu identifizieren. Seine Algorithmen wurden entwickelt, um Fehler unabhängig von Größe, Form, Winkel oder Kontrast zu erkennen. Ein einzigartiges optisches Strahlprofil ermöglicht auch die gleichzeitige Analyse mehrerer Bilder, um Fehler zu erkennen und zu vergrößern. Die aus MIS 200 gesammelten Daten sind mit einer grafischen Benutzeroberfläche (GUI) leicht zu interpretieren und können zur Erzeugung kompletter Fehler-, Film- und Overlay-Bilder verwendet werden. Diese Bilder können elektronisch gesendet oder zur Überprüfung, Messung und Optimierung gedruckt werden. Die automatisierte Funktionalität und das benutzerfreundliche Design machen LEICA/VISTEC MIS 200 zu einer idealen Wahl für Anwendungen in der Masken- und Waferinspektion.