Gebraucht LEICA / VISTEC MIS 200 #293671055 zu verkaufen

LEICA/VISTEC MIS 200 ist eine innovative Masken- und Wafer-Inspektionsanlage, die die Integrität von photolithographischen Mustern während des Produktionsprozesses untersucht. Es verfügt über ein einzigartiges Design der bildgebenden Optik, kombiniert mit speziellen Verarbeitungsalgorithmen, wodurch hochauflösende Bilder von Nanoskala-Funktionen schnell und genau erstellt und analysiert werden können. Die in der LEICA MIS 200 eingesetzten Abbildungsoptiken basieren auf einem Kondensator mit hoher numerischer Apertur (N.A.), kombiniert mit einer feldselektiven Objektivlinse und einer gekühlten Digitalkamera. Das System ist in der Lage, schnell hochauflösende Bilder von Nanomustern mit einem breiten Sichtfeld zu erfassen. Die resultierenden Bilder sind äußerst genau, wobei Details bis unter 1 Nanometer sichtbar sind. Darüber hinaus ist die Einheit in der Lage, Interferenzmuster zu erfassen, die zur genauen Messung der Qualität der Muster und zur Fehlererkennung verwendet werden können. Die leistungsstarken Software-Algorithmen von VISTEC MIS 200 können Informationen aus den erfassten Bildern extrahieren, die für die Fehleranalyse äußerst nützlich sind. Beispielsweise ist die Maschine in der Lage, auch sehr geringe Abweichungen in den geometrischen Eigenschaften beliebiger Muster zu erkennen, sowie kritische Fehler auf einem Wafer zu erkennen. Darüber hinaus ist die Software in der Lage, die Kontaktwiderstände einer Anordnung von Geräten automatisch zu messen, wodurch eine schnelle und zuverlässige Auswertung kritischer Geräteparameter möglich ist. MIS 200 Tool ist auch mit einer Reihe von Funktionen für die Datenverwaltung ausgestattet. Diese Funktionen umfassen ein Traceability-Asset, das eine umfassende Nachverfolgung aller erfassten Bilder ermöglicht, sowie eine Datenspeicherfunktion, um alle erfassten Bilder und Ergebnisse für zukünftige Referenzen zu speichern. LEICA/VISTEC MIS 200 ist somit ein Industriestandard-Werkzeug zur Inspektion von Nanoskala-Merkmalen in Photolithographie-Prozessen. Es ist in der Lage, sehr hochauflösende Bilder zu erfassen, die eine gründliche Fehleranalyse und eine detaillierte Bewertung der Qualität der Geräte ermöglichen. Darüber hinaus verfügt das Modell über erweiterte Funktionen zur Datenverwaltung und Rückverfolgbarkeit, mit denen Benutzer alle erfassten Bilder und Ergebnisse speichern und darauf zugreifen können.