Gebraucht LEICA / VISTEC MIS 200 #77516 zu verkaufen

LEICA/VISTEC MIS 200 ist eine anspruchsvolle Masken- und Waferinspektionsanlage, die in der Halbleiterindustrie eingesetzt wird. Das System verwendet erstklassige optische Inspektionstechnologie, gepaart mit herausragenden Optik- und Bildgebungswerkzeugen, um genaue, zuverlässige und wiederholbare Ergebnisse zu liefern. Das Gerät wurde speziell für die Fotomaskeninspektion entwickelt und ist aufgrund seiner hohen Vergrößerungsfähigkeit, Flexibilität und fortschrittlicher Farbbildtechnologie die umfassendste verfügbare Maskeninspektionsmaschine. Das Tool verwendet fortschrittliche Optik-Technologie entwickelt, um hervorragende Bildqualität und Auflösung zu bieten, eine Vielzahl von Inspektionsergebnissen für eine breite Palette von Größen, Formen und Materialien zu produzieren. Die Anlage hat ein modulares Design und verwendet eine Vielzahl von optischen Fähigkeiten einschließlich 5x bis 40x native Vergrößerung für Bildgebung/Inspektion (Zoombereich bis 500x), Glasfaserbeleuchtung, Hellfeld, Dunkelfeld und schräge Beleuchtung, sowie automatisierte Dunkelfeld- und Hellfeldinspektion. Das Modell Schnittstellen mit der Bildgebungs- und Analyse-Software Suite ARRIANA LAB, um Echtzeit-Fehlerüberprüfung und Optimierung von Undurchsichtigkeit, Edge-Pull, detaillierte Bildgebung und andere Anwendungen zu ermöglichen. Das Gerät verfügt über automatisierte Bilderfassung und Autofokus-Funktionen, robustes Farbmanagement und erweiterte Mustererkennungssoftware. Es verfügt auch über die MIV-Technologie (Multiple Image View), die die gleichzeitige Anzeige mehrerer Bilder ermöglicht, um Qualitätssicherung und Fehleranalyse bereitzustellen. Das System ist mit einer voll funktionsfähigen Client/Server-Netzwerkarchitektur ausgestattet, die einen schnellen und einfachen Datenaustausch zwischen Maske und anderen Diagnosetools ermöglicht. Das Gerät enthält ein PEC-Paket (Proximity Effect Correction), das den Effekt von bildgebenden Artefakten wie durch Staub und Kratzer genau simuliert. Die Maschine kann auch zur Inspektion von Wafern, Teilen und Baugruppen verwendet werden. Es bietet hochauflösende Bildgebung und lichtarme Fähigkeiten, um kleinere Partikel, Kratzer und andere Anomalien zu erkennen, die während der Waferbearbeitung auftreten können. Dank der erweiterten Analysefunktionen können Benutzer potenzielle Probleme schnell erkennen und beheben. LEICA MIS 200 ist ein unschätzbares Gut für Halbleiterhersteller, da es hilft, eine sichere, zuverlässige und ertragsstarke Produktion zu gewährleisten. Es ist ideal für Produktions-, Qualitätskontroll- und Fehleranalyseanwendungen und bietet hervorragende Ergebnisse bei der Leistung und Qualitätskontrolle.