Gebraucht LEICA / VISTEC MIS 200 #9177359 zu verkaufen

LEICA/VISTEC MIS 200 ist ein Masken- und Wafer-Inspektionsgerät, das in der Halbleiterherstellung eingesetzt wird und aufgrund seiner Zuverlässigkeit und Genauigkeit unübertroffen ist. Dieses Spitzensystem bietet Anwendern die detailliertesten Inspektionsmöglichkeiten und setzt einen neuen Standard für die Qualitätskontrolle. Die Einheit ist in der Lage, die Wafertopographie, die Sondierung im Nanometermaßstab und eine Reihe parametrischer Messungen zu berücksichtigen, um das Vorhandensein von möglicherweise winzigen Defekten zu erkennen. LEICA MIS 200 hat die Fähigkeit, mehrere Stempel zu inspizieren, mit Messfähigkeiten bis zu 15 mal schneller als vergleichbare Systeme. Darüber hinaus können Anwender die genauen Parameter und Komponenten, die gemessen werden, wie Schichtmuster, Transistoren, Vias und andere hochdichte Schaltungsstrukturen, mit Leichtigkeit steuern. Eine genaue Ausrichtung kann auch unabhängig von der Wafertopographie schnell erreicht werden. Dies führt zu minimierten Fehlleseausreißern von bis zu 10,5 μ m, die deutlich unter herkömmlichen Systemen liegen. Die Maschine besteht aus einem Stereomikroskop-Mikroskop und einer motorisierten XY-Bühne, die an einem PC-basierten Bilderfassungswerkzeug befestigt ist. Dies kombiniert mit patentierter telezentrischer Optik, um ein fokussiertes Bild des Wafers oder der Maske zu erzeugen. Die Anlage verfügt auch über mehrere High-Tech-Funktionen, wie automatisierte Messungen, die proprietäre Algorithmen für die Erkennung und Identifizierung von Funktionen verwenden. Auf diese Weise können Benutzer Komponenten schnell lokalisieren und messen. Es enthält auch eine intuitive Software-Oberfläche, mit der Benutzer Parameter mit Leichtigkeit und Präzision feinjustieren können. VISTEC MIS 200 ist ein leistungsstarkes und effizientes Inspektionsmodell, das höchste Genauigkeit und Zuverlässigkeit bietet. Die Ausrüstung kann verwendet werden, um sicherzustellen, dass die hochwertigsten Masken- und Wafer-Produkte produziert werden, und sicherzustellen, dass vorhandene Mängel schnell lokalisiert und behoben werden. Dieses System ist wichtig, um sicherzustellen, dass Halbleiterbauelemente die strengsten Fertigungsanforderungen erfüllen.