Gebraucht LEICA / VISTEC MIS 200 #9234197 zu verkaufen

LEICA/VISTEC MIS 200 ist eine Masken- und Waferinspektionsanlage für Halbleiterproduktionsanwendungen. Es ist ein Hochleistungssystem, das es Benutzern ermöglicht, jede Ebene ihrer Masken, Wafer und anderen zugehörigen Materialien genau zu überprüfen und gleichzeitig die benötigte Zeit und den erforderlichen Aufwand zu minimieren. Das Gerät besteht aus einer Reihe von Komponenten, die zusammenarbeiten, um effiziente und genaue Inspektionen zu gewährleisten. Zu den Schlüsselkomponenten der LEICA MIS 200 gehören ein hochauflösendes konfokales Abbildungsmodul, ein Polarisationskontrastmodul, ein Totalreflexionsmodul, ein mehrfaches visuelles Inspektionsmodul, ein Probenreinheitsinspektionsmodul, eine Ausrichtstation und ein Software-Paket. Das bildgebende Modul der Maschine ist mit einer fortschrittlichen hochwertigen bildgebenden Technologie ausgestattet, um eine genaue Inspektion von Masken und Wafern zu ermöglichen. Dieses Modul scannt Bilder mit außergewöhnlicher Klarheit und löst feine Details auf, die es Anwendern ermöglichen, selbst kleinste Unvollkommenheiten auf den gescannten Masken und Wafern genau zu erkennen und auszuwerten. Das Polarisationskontrastmodul ermöglicht es dem Benutzer, polarisiertes Licht auf der Oberfläche von Mustern ohne unterbelichtete oder überbelichtete Flecken zu untersuchen. Darüber hinaus kann dieses Modul Fehler erkennen, die üblicherweise durch Standardprüfverfahren verfehlt würden. Das Totalreflexionsmodul ist für eine schnelle, quantitative Reflexionskarte auf Masken und Wafern ausgelegt. Dieses Modul misst Reflexionsvermögen und Foliendicke, so dass Anwender kleine Dickenunterschiede zwischen benachbarten Schichten erkennen können. Das mehrfache visuelle Inspektionsmodul ist ein leistungsstarkes optisches Werkzeug, das Benutzern eine verbesserte Sicht auf Fehler bietet. Dieses Modul ermöglicht es Benutzern, Oberflächenfehler der gescannten Masken und Wafer zu identifizieren. Darüber hinaus ist dieses Modul auch in der Lage, beschädigte elektrische Verbindungen zwischen den abgetasteten Masken und Wafern zu identifizieren. Das Probenreinigungsprüfmodul des Werkzeugs ermöglicht es dem Benutzer, die Sauberkeit seiner Proben vor der Inspektion genau zu überprüfen. Das Modul erkennt Verunreinigungen wie Stäube und organische Abfälle, so dass der Anwender die Verunreinigungen vor der weiteren Inspektion entfernen kann. Die Ausrichtstation der Anlage ist mit Lasertechnologien ausgestattet, die eine präzise Ausrichtung der geprüften Masken und Wafer gewährleisten. Diese zuverlässige Ausrichtung stellt sicher, dass alle Scans der Masken und Wafer genau und konsistent sind. Schließlich enthält VISTEC MIS 200 auch ein Softwarepaket, das den gesamten Inspektionsprozess automatisiert. Die Software umfasst Bildverarbeitungs- und Analysetools sowie eine intuitive Benutzeroberfläche, mit der der Benutzer seine Inspektionseinstellungen einfach überwachen und konfigurieren kann. Insgesamt ist MIS 200 ein hochentwickeltes Masken- und Wafer-Inspektionsmodell, das es dem Benutzer ermöglicht, seine Masken und Wafer schnell und genau auf Defekte zu überprüfen. Es ist eine ideale Lösung für Halbleiterproduktionsanwendungen.