Gebraucht LEICA / VISTEC MIS 200 #9262659 zu verkaufen

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ID: 9262659
Wafergröße: 8"
Weinlese: 1995
Inspection system, 8" Broken air dumper 1995 vintage.
LEICA/VISTEC MIS 200 Mask and Wafer Inspection Equipment ist eine fortschrittliche Technologie, die optische Bildgebungssysteme und fortschrittliche 3D-Bildgebungsalgorithmen kombiniert, um eine umfassende Lösung für die Inspektion integrierter Schaltkreissubstrate und Masken während der IC-Herstellung zu bieten. Das System ermöglicht eine breite Palette von hochauflösenden Inspektionen, einschließlich optischer Inspektion von IC-Testfahrzeugen, Montage von Masken und elektrische Verifizierung. Die modulare Einheit ist sehr vielseitig einsetzbar und kann vollständig an alle Produktionsanforderungen angepasst werden. Die Maschine LEICA MIS 200 zeichnet sich durch ein effizientes Design mit geringem Platzbedarf und geringen Installationskosten aus. Das Tool ist mit einem leistungsstarken Computerprozessor und Hochgeschwindigkeitsspeicher ausgestattet. Der Rechner ist mit einem digitalen Signalprozessor (DSP) verbunden, um die Leistung zu verbessern. Es verfügt auch über Hot-Swap-Festplatten für einfache Datenspeicherung und Abruf. Es gibt sowohl ein optisches Mikroskop als auch ein Weitfeldmikroskop zur detaillierten Inspektion von IC-Testfahrzeugen und Masken. Das Modell ist mit einer Reihe von 3D-Bildgebungsalgorithmen zur Inspektion integrierter Schaltungen ausgestattet. Diese Algorithmen können die Topographie von ICs analysieren, Fehler wie offene Schaltungen, kurze Hosen und Überbrückungen erkennen und genaue visuelle Darstellungen der ICs liefern. Dies trägt dazu bei, Zuverlässigkeit, Genauigkeit und Einhaltung behördlicher Auflagen sicherzustellen. Die Algorithmen helfen auch, Fehler schnell und genau zu erkennen und zu klassifizieren. VISTEC MIS 200 enthält auch eine Reihe von erweiterten Metriken und Diagnosetools. Diese leistungsstarken Metriken analysieren und zeigen die Ergebnisse verschiedener Messungen an, sodass Techniker signifikante Probleme mit der Schaltung oder der Maske identifizieren können. Die Geräte sind mit Protokollen und Geräten nach Industriestandard kompatibel und ermöglichen den Anschluss an automatisierte Testgeräte, optische Systeme und andere Hardware. MIS 200 Masken- und Wafer-Inspektionssystem ist eine ideale Lösung für jede IC-Fertigungsanwendung. Seine fortschrittlichen Bildgebungsalgorithmen helfen, ein hohes Maß an Genauigkeit und Zuverlässigkeit für alle ICs zu erhalten, und seine kundenspezifische Konfiguration und leistungsstarke Tools ermöglichen es Technikern, schnell und einfach mögliche Fehler zu diagnostizieren.
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