Gebraucht LEICA / VISTEC MIS 200 #9267741 zu verkaufen
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ID: 9267741
Wafergröße: 8"
Inspection system, 8"
FAULHABER 34/1 Motor with HEDS-5500 encoder
LEICA 713 Laser
(2) DBP 0668-016 Linear bearings
KUHNKE RM 32-F 24VDC Solenoid
LMW-MEL Circuit board
Wafer carrier handler included
Does not include:
Manuals
Cords
Cables.
LEICA/VISTEC MIS 200 Maske und Wafer Inspektion Ausrüstung ist entworfen, um automatisierte, hochgenaue Inspektion von Lithographiemasken und Wafern zu bieten. Dieses System verwendet ein hochentwickeltes Mikroskop mit einer digitalen Kameraeinheit, um die volle Treue von Masken- und Waferbildern zu erfassen. Die Inspektionsmaschine enthält ein Softwarepaket, das Autofokus- und Auto-Belichtungsfunktionen enthält und die Analyse und den Vergleich der hochauflösenden Bilder schnell und einfach macht. Das Werkzeug verfügt über einen großen Bildbereich, um eine Masken- und Wafer-Inspektion in vielen Größen und Formen zu ermöglichen. Das Motion Control Asset ermöglicht einen präzisen Scan ganzer Chips oder einzelner Arrays und ermöglicht eine präzise Abbildung selbst kleinster Merkmale. Das Mikroskop kann auch mit verschiedenen Vergrößerungseigenschaften für unterschiedliche Masken- und Wafergrößen konfiguriert werden. Die Software des Modells bietet eine benutzerfreundliche grafische Benutzeroberfläche (GUI) und leistungsfähige Analysetechnologie. Es enthält eine Vielzahl von Analyseparametern, einschließlich Geometrieerkennung, Vergleich und Maskenregelprüfung. Auf diese Weise können Anwender schnell und genau bestimmen, ob eine Maske oder ein Wafer der gewünschten Konstruktion oder Spezifikation entspricht. Das Gerät verfügt zudem über eine 2D-Bildanalyse, die es Anwendern ermöglicht, mit Standard-Maßmessungen auf schwer erkennbare Defekte zu überprüfen. Neben den automatisierten Funktionen bietet das Masken- und Waferinspektionssystem LEICA MIS 200 zusätzliche manuelle Analysefunktionen. Spezialisierte Softwarepakete bieten Anwendern umfangreiche Nachbearbeitungsfähigkeit und Analysesteuerung, so dass sie für Forschung, Entwicklung oder Fehleranalyse von Masken und Wafern geeignet sind. Die Masken- und Wafer-Inspektionseinheit VISTEC MIS 200 bietet ein umfassendes Paket zur präzisen, automatisierten Inspektion von Lithographiemasken und Wafern. Die robuste Bewegungssteuerungsmaschine, das fortschrittliche Mikroskop und die leistungsstarke Software mit manuellen Analysefunktionen machen es für mehrere Anwendungen geeignet, von allgemeinen Inspektionen bis hin zu Forschung, Entwicklung und Fehleranalyse.
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