Gebraucht LEICA / VISTEC MIS 200 #9287263 zu verkaufen

LEICA/VISTEC MIS 200 ist eine Masken- und Waferinspektionsanlage der LEICA-Serie von Inspektionswerkzeugen. Das System bietet eine Kombination aus automatischer Inspektion, optischer variabler Mikro-Bildgebung und defektbeweglicher Fensterinspektion zur schnellen Erkennung von Defekten in Masken und Wafern. Das Gerät bietet eine hohe Auflösung, mehrere Vergrößerungsstufen und schnelle Rekonstruktionszeiten, die es dem Benutzer ermöglichen, Fehler und mögliche Probleme schnell genau zu erkennen. Die Maschine nutzt eine inkohärente Strobobeleuchtung mit einem einzigartigen Lichtblech-Design, das eine homogene Beleuchtung in der gesamten Maske oder dem Wafer gewährleistet. Dadurch ist sichergestellt, dass alle Punkte gleichmäßig und gleichmäßig beleuchtet sind und eine hohe Genauigkeit und Ergebnisgenauigkeit bieten. LEICA MIS 200 ermöglicht auch eine Vielzahl von mehrdimensionalen und mehrstufigen Bildgebungsmodi wie Echtzeit-Videoprüfung, Linienscan und Rückseitenmesstechnik. Durch die Verwendung dieser Funktionen kann der Benutzer schnell komplexe Merkmale auf der Maske oder dem Wafer analysieren, z. B. Kontaktlöcher, Liniendefinitionen, Linienbreiten und den Abstand zwischen den Linien. Die automatisierten Analysetools von VISTEC MIS 200 ermöglichen die automatische Identifizierung und Klassifizierung von Fehlern, anhand derer der Benutzer seine wahrscheinliche Ursache verstehen kann. Darüber hinaus ist das Werkzeug in der Lage, Linienbreiten und -räume, Tiefe und Kreisförmigkeit von Fehlern automatisch zu messen, was genauere Ergebnisse ermöglicht. Darüber hinaus kann der Vermögenswert einen detaillierten Vergleich von Maske und Wafer ermöglichen, um etwaige Unterschiede zwischen den beiden zu ermitteln. Schließlich bietet das Modell auch eine leistungsstarke Fehlerdiagnose-Anwendung, die Muster und Anomalien erkennen und klassifizieren kann. Dies ist ein unglaublich nützliches Werkzeug, da es dem Benutzer helfen kann, strukturelle Defekte und andere Probleme zu identifizieren, die den Produktionsprozess möglicherweise beeinträchtigen könnten. Darüber hinaus bietet MIS 200 auch eine spektrale optische Messtechnik, die Merkmale wie Liniendefinition und Schwankungen der optischen Eigenschaften der Maske oder des Wafers messen kann. Insgesamt ist LEICA/VISTEC MIS 200 ein unglaublich leistungsfähiges Masken- und Wafer-Inspektionssystem, das es Anwendern ermöglicht, Masken und Wafer schnell und genau auf Defekte zu analysieren. Das Gerät bietet eine Kombination aus automatischer Inspektion, optischer variabler Mikrobildgebung und defektbeweglicher Fensterinspektion sowie einer Reihe von mehrdimensionalen und mehrstufigen Bildgebungsmodi und einer leistungsstarken Fehlerdiagnoseanwendung. Als solche ist die Maschine äußerst nützlich, um Fehler und mögliche Probleme an Masken und Wafern schnell und genau zu erkennen.