Gebraucht LEITZ 100x #9177017 zu verkaufen

LEITZ 100x Mask & Wafer Inspection System ist eine mikroskopische Ausrüstung zur hochauflösenden Abbildung von Halbleiterscheiben und Masken. Es verfügt über eine automatisierte motorisierte Bühne, eine anspruchsvolle CCD-Kamera und Langstreckenziele für Vergrößerung und Inspektion. 100x bietet ausgezeichnete optische Leistung mit einer schnellen 10-Bit-Bildaufnahmefrequenz und 24-Bit-Farbe. Mit seinem kompakten, leichten Design eignet sich dieses System perfekt für industrielle Umgebungen mit begrenztem Platzangebot. LEITZ 100x verfügt über eine hochentwickelte Motorstufe, die eine präzise Positionierung und Abtastung von Objekten für die Bildgebung ermöglicht. Die integrierte CCD-Kamera erfasst hochauflösende Bilder mit einer Auflösung von 1,3 Megapixel bei einer maximalen Bildrate von 30f/s. Die motorisierte Stufe kann so programmiert werden, dass ihre Position und Geschwindigkeit eingestellt werden, um das genaue Abtasten von Wafern und Masken zu erleichtern. Zusätzlich sorgt der ergonomische, verstellbare Fokusknopf für eine einfache und genaue Fokussierung. 100x verfügt auch über eine Reihe von verfügbaren Objektiven, von einem niedrig vergrößerten 5x Objektiv für die Weitfeldvisionierung bis zu einem hochvergrößerten LEITZ 100x S-Plan Apochromat Objektiv mit ausgezeichneter Farbkorrektur für die mikroskopische Untersuchung. Integrierte Software ermöglicht eine einfache Bilderfassung und -manipulation sowie vielseitige Datenanalysen. 100x verfügt auch über einen langen Arbeitsweg von bis zu 25mm, so dass eine enge Inspektion ohne Berührung der Masken oder Wafer. Darüber hinaus ist LEITZ 100x mit fortschrittlicher Beleuchtungstechnik ausgestattet, um eine optimale Bildqualität zu gewährleisten. Helligkeitsfeld, Dunkelfeld und schräge Beleuchtung sind verfügbar und bieten Benutzern die Flexibilität, die Beleuchtungsanforderungen für jede Anwendung anzupassen. LEDs sorgen für lang anhaltendes, konsistentes Licht, während der Kondensator für eine gleichmäßige und hohe Intensität der Beleuchtung über die Probenoberfläche sorgt. 100x ist die ideale Wahl für die Masken- und Waferinspektion in Industrie- und Laborumgebungen. Das fortschrittliche Bildgebungssystem, die variablen Objektive, die Beleuchtungstechnologien und die lange Arbeitsstrecke machen es zu einem perfekten Werkzeug für eine Vielzahl von bildgebenden Anwendungen. Einstellbare Parameter wie Fokusknopf, Stufengeschwindigkeit und wählbare Beleuchtungsmodi sorgen für eine einfache und feine Anpassung an die bildgebenden Anforderungen jeder Probe. LEITZ 100x ist ein leistungsstarkes, zuverlässiges Werkzeug, das eine überlegene Auflösung für eine Vielzahl von Anwendungen ermöglicht.