Gebraucht LEITZ Ergolux #60381 zu verkaufen

ID: 60381
Trinocular with DF and BF Motorized nosepieces 10x eyepieces 50x, 100x, 250x, 500x, 1000x NPL Plan 6" stage XYZ 5 mega pixel camera/video plus software Can measure at less than micron level Can measure exact distance between micron objects.
LEITZ Ergolux Mask & Wafer Inspection Equipment ist eine hochmoderne Maschine zur Inspektion von Masken und Wafern in der Fertigung und wissenschaftlichen Anwendungen. Das System verwendet fortschrittliche optische Technologien, um die verschiedenen Eigenschaften einer Vielzahl von Masken- und Wafertypen genau und präzise zu messen. Die optische Messtechnik bietet eine beispiellose Genauigkeit und schnelle Datenanalyse der untersuchten Oberflächen. Die schnelle und einfache Bedienung der Maschine macht sie ideal für den Einsatz in Serien- sowie Forschungs- und Entwicklungsumgebungen. Ergolux Mask & Wafer Inspection Tool besteht aus einer Basiseinheit mit integrierter Optik und einem räumlichen Lichtmodulator (SLM). Der SLM enthält die notwendigen Komponenten, um die Oberfläche der Maske oder des Wafers zu messen und zu analysieren. Dazu gehören eine Laserlichtquelle, ein polarisierender Strahlteiler und eine Detektionsoptik. Die Basiseinheit enthält die notwendigen CPUs, DSPs und andere Hardware für den Betrieb des Assets. Das Modell ist in der Lage, Oberflächenmerkmale zu erkennen und zu messen, die für herkömmliche Methoden wie optische Mikroskope oft zu klein sind. Es liefert Daten über eine breite Palette von Parametern wie Profil, Verschiebung außerhalb der Ebene, Oberflächenrauhigkeit, Reflexion, Transmission und strukturelle Eigenschaften. Das Gerät ist mit fortschrittlichen Datenanalyse- und Visualisierungsfunktionen ausgestattet, so dass Bediener schnell aussagekräftige Interpretationen der Ergebnisse vornehmen können. LEITZ Ergolux Mask & Wafer Inspection System ist in der Lage, eine Vielzahl von Messungen durchzuführen. Dazu gehören Oberflächenstruktur, Filmdicke, Spannung, Seitenwandwinkel, Ebenheit, Materialzusammensetzung, Profil, Verschiebung außerhalb der Ebene und mehr. Die optische Einheit ist mit einem aktiven Fokussieralgorithmus konfiguriert, um fokussierte Bilder aus verschiedenen Höhenbereichen sicherzustellen. Das ergonomische Design der Maschine ist darauf ausgerichtet, dass die Bediener über längere Zeiträume bequem arbeiten können. Ergolux Mask & Wafer Inspection Tool wurde entwickelt, um detaillierte, genaue und wiederholbare Datenanalysen bereitzustellen, die unvoreingenommen und zuverlässig sind. Die außergewöhnliche Performance der Anlage sorgt für zuverlässige und wiederholbare Ergebnisse. Die Maschine verfügt zudem über umfassende Softwaresteuerungsmöglichkeiten und eine umfassende Modelldokumentation, die die Integration in Automatisierungssysteme einfach und sicher macht. LEITZ Ergolux Mask & Wafer Inspection Equipment ist die perfekte Wahl für jede Anwendung, die eine zuverlässige und genaue Inspektion einer Vielzahl von Masken und Wafern benötigt. Mit seinen fortschrittlichen optischen Technologien, der einfachen Bedienung und dem ergonomischen Design bietet das System Benutzern ein effizientes und leistungsstarkes Werkzeug, um genaue und wiederholbare Ergebnisse zu erzielen.
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