Gebraucht LEITZ MPV-CD2 #293749265 zu verkaufen

LEITZ MPV-CD2 ist eine mikroskopische Masken- und Wafer-Inspektionsanlage für 1X und 5X Stepper und Scanner. Das System besteht aus drei optischen Komponenten: einem Interferenzmikroskop, einem Bilddetektor und einem Mikrometerkopf. Mit dem Interferenzmikroskop werden während des Inspektionsprozesses Bilder von Maske und Wafer erfasst. Es weist eine Objektivlinse mit einer numerischen Apertur von 0,34 und einem 1/2 ″ Sensor auf. Es verfügt auch über eine digitale Fokussperre, die einen kontinuierlichen Fokus unabhängig von Maske oder Waferbewegung ermöglicht. Der Bilddetektor ist ein Charge Couple Device (CCD) mit 2.048 x 2.048 Pixeln und 12-Bit-Digitalisierung. Es ist in der Lage, ein volles 25µm-Bild aus einem 3-µm-Sichtfeld zu erzeugen. Es hat auch eine variable Verstärkung von bis zu 10.000x, um Bilddetails zu maximieren. Der Mikrometerkopf wird für die Punktgenauigkeit während des Inspektionsprozesses verwendet. Es ist auf einer vierachsigen Drehstufe mit einer Genauigkeit von 25 µm montiert, um bei jeder Inspektion eine 100% ige Genauigkeit zu gewährleisten. MPV-CD2 ist auch mit einer Vielzahl von benutzerfreundlichen Funktionen ausgestattet. Es enthält eine Schnittstelle, die eine direkte Kommunikation mit Anwendungen von Drittanbietern ermöglicht; eine Prozessüberwachungseinheit, um die Ergebnisse jeder Inspektion zu protokollieren; und eine interferometrische Rotlichtschutzmaschine, um eine maximale Bildqualität zu gewährleisten. LEITZ MPV-CD2 ist einfach zu bedienen und hochgenau und somit die ideale Lösung für die Masken- und Waferinspektion. Von kleinen bis zu großen Bildfehlern bieten die Eigenschaften von MPV-CD2 dem Benutzer das Vertrauen, dass jede Inspektion genau und zuverlässig ist.