Gebraucht MATSUSHITA / SEIKI M515-III #9299769 zu verkaufen

MATSUSHITA/SEIKI M515-III ist eine fortschrittliche Masken- und Waferinspektionsanlage zur Herstellung integrierter Schaltungen in der Halbleiterindustrie. Das System ist mit einer hochpräzisen, weitwinkligen Projektionsoptik und fortschrittlicher bildgebender Hardware und Software ausgestattet, die es ermöglicht, schnelle, genaue und zuverlässige Inspektionsmöglichkeiten für Masken und Wafer bereitzustellen. SEIKI M515-III verwendet eine hochauflösende digitale Bildaufnahmemaschine, um Hunderte von Wafern mit einem einzigen Scan zu untersuchen, und der große Vergrößerungsbereich ermöglicht es ihm, mikroskopische Defekte zu erkennen. Die fortgeschrittenen Bildgebungstechnologien des Tools wie fokussierter Ionenstrahl (FIB) und Nahfeldbildgebung ermöglichen es, selbst subtile Änderungen der Muster auf den Masken und Wafern zu erkennen. Das Asset umfasst auch eine vollständige Palette von Bildgebungs- und Analysealgorithmen zur Fehlererkennung und -klassifizierung. Darüber hinaus ist MATSUSHITA M515-III mit fortschrittlicher Echtzeit-Fehlererkennungstechnologie ausgestattet, um Prozessfehler zu erkennen, die während des Herstellungsprozesses entstehen können. M515-III bietet auch eine Reihe von anpassbaren Funktionen, wie anpassbare Belichtungseinstellungen, mit denen Benutzer das Modell für verschiedene Arten von Inspektionen festlegen können. Das Gerät verfügt auch über eine intuitive und einfach zu bedienende grafische Benutzeroberfläche, so dass Anfänger schnell mit den Funktionen und Fähigkeiten des Systems vertraut werden können. MATSUSHITA/SEIKI M515-III ist kostengünstig und einfach zu bedienen und somit eine ideale Wahl für Halbleiterhersteller. Das Gerät ist sehr zuverlässig und liefert detaillierte und genaue Bilder für die Inspektion. Es ist in der Lage, mehrere Schichten von Masken und Wafern zu überprüfen, und seine große Vergrößerungsbereich ermöglicht es, auch die kleinsten Fehler zu erkennen. Darüber hinaus eignet sich SEIKI M515-III für eine Vielzahl von Anwendungen, darunter Waferinspektion, Maskenmesstechnik, Ausbeuteanalyse und Prozessoptimierung.