Gebraucht MCVAC MCM-160 #9266954 zu verkaufen

MCVAC MCM-160 Maske und Wafer Inspektion Ausrüstung ist ein fortschrittliches Bildgebungs- und Inspektionsgerät, das hochauflösende Bildgebung für Wafer und Masken in der Halbleiter-Wafer-Herstellung verwendet bietet. MCM-160 ist ein All-in-One-System, das sowohl Wafer-Scan-Funktionen als auch Maskeninspektionsfunktionen umfasst. MCVAC MCM-160 verwendet eine neuartige Linsenarray-Technologie, um mikroskopische Bilder jedes Musters auf dem Wafer oder der Maske zu erfassen. Dieses Gerät kann auf Defekte und substratbezogene Eigenschaften auf Wafersubstraten und Masken bis 200 mm Durchmesser untersuchen. MCM-160 verfügt über einen 5-Megapixel-CCD-Sensor zur Abbildung von Wafern. Der CCD-Sensor hat ein Sichtfeld von 2,5 × 38 × 2,5 mm und kann ein 9 mm breites Sichtfeld über den aktiven Bereich eines einzelnen Wafers mit einer Auflösung von bis zu 5 µm scannen. Der CCD-Sensor kann so konfiguriert werden, dass er in verschiedene Richtungen und Richtungen scannt, um sowohl vertikale als auch seitliche Merkmale auf dem Wafer zu erfassen. Dies ermöglicht eine präzise Abbildung feiner Details auf dem Wafer und macht MCVAC MCM-160 eine besonders geeignete Inspektionsmaschine zur Erkennung von Pinholes, kleinen Oxidmerkmalen, kleinen Kontakten/über Anomalien, kleinen Partikeln und Leitungsdurchbrüchen auf 5 µm. MCM-160 verfügt auch über Maskeninspektionsmöglichkeiten, mit denen Masken bis 200 mm Durchmesser überprüft werden können. Das Werkzeug ist mit einem 4-Megapixel-Filterarray CCD und einer einstellbaren Fokuslinse ausgestattet, die zusammenarbeiten, um mikroskopische Bilder jedes Musters auf der Maske zu erfassen. Die Anlage ist in der Lage, Fehler wie Zeilenumbrüche, kurze Hosen und Verschmutzungen bei Auflösungen bis zu 6µm zu erkennen. Das Modell verfügt auch über eine KE-Erkennungsfähigkeit, die verwendet werden kann, um Linienend- oder Musterpositionsunterschiede zu erkennen, die die Qualität der Maske beeinflussen können. Neben der hochauflösenden Bilderfassung können MCVAC MCM-160 auch Waferausrichtung und kritische Dimensionsmessungen durchführen. Das Gerät ist mit einem automatischen Ausrichtungsmerkmal ausgestattet, das in der Lage ist, den Wafer genau zu positionieren und das System auf die Abbildungsrichtung des Wafers auszurichten. Dadurch wird sichergestellt, dass das Gerät die Funktionen auf dem Wafer richtig erfassen kann. MCM-160 verfügt auch über ein kritisches Bemaßungsanalyse-KE, das KE-Kanten und Durchmessergrößen genau messen kann. Insgesamt ist MCVAC MCM-160 Masken- und Wafer-Inspektionsmaschine ein fortschrittliches Bildgebungs- und Inspektionsgerät, das eine hochauflösende Abbildung von Wafern und Masken ermöglicht. Das Werkzeug verfügt sowohl über Wafer-Scan- als auch Maskeninspektionsmöglichkeiten, die eine präzise Erkennung von Defekten und substratbezogenen Merkmalen auf dem Wafer oder der Maske ermöglichen. Es ist auch in der Lage, Waferausrichtung und kritische Dimensionsmessungen durchzuführen.