Gebraucht METRICON 2010/M #293767526 zu verkaufen

METRICON 2010/M ist eine leistungsstarke Wafer- und Maskeninspektionsanlage, die für hohe Durchsätze und hohe Auflösungsfunktionen für anspruchsvolle Wafer- und Maskenauflagen entwickelt wurde. Das System nutzt fortschrittliche Bildverarbeitungs- und Bildgebungstechnologien, um Wafer- und Maskenmuster und -fehler auf Subpixelebene zu überprüfen. Es verfügt über eine große und auflösungsreiche Abbildungseinheit mit einem zweidimensionalen Bildsensor für hohen Durchsatz und Genauigkeit bei allen Zwecken. Es ist mit einer Optik und einem Doppelstrahl-Musterkomparator zum Vergleich mehrerer Muster für Konsistenz und Defekte ausgestattet. Darüber hinaus optimiert seine proprietäre Bildgebungssoftware die Geschwindigkeit und Genauigkeit der Bildverarbeitung und -extraktion und ermöglicht es, maßgeschneiderte Inspektionsmethoden für bestimmte Wafer oder Masken zu erstellen. Zudem bietet die Maschine durch ihren modularen Aufbau Flexibilität, sodass die Konfiguration an die Prozessanforderungen angepasst werden kann. Die Softwarearchitektur ist modularisiert und in hohem Maße parallelisiert und ermöglicht eine effiziente Kontrolle des Inspektionsauftrags oder des Durchflusses für einen verbesserten Durchsatz. Darüber hinaus unterstützt es eine Reihe von Geräten, einschließlich nicht gemusterter Wafer, Masken mit komplexen Geometrien und Gitterstrukturen. Darüber hinaus umfasst METRICON 2010/M integrierte Operationen und Testkontrollen für eine verbesserte Genauigkeit und Ergebnisverfolgung. Dadurch wird sichergestellt, dass alle Prozess- und Inspektionsparameter wie Lüfter- und Schichtzeit auf Zuverlässigkeit und verbesserte Prozesssteuerung aufgezeichnet und überwacht werden. Das Tool enthält auch grafische Bedienelemente für eine einfache Bedienung und kann mit der Bildinspektionsumgebung verknüpft werden. METRICON 2010/M ist ein ausgezeichnetes Werkzeug zur Inspektion und Prüfung hochkomplexer Wafer- und Maskenmuster. Es bietet Anwendern eine überlegene Bildauflösung im Vergleich zu anderen Systemen, ausgezeichnete Flexibilität und Kontrolle sowohl in der Konfiguration als auch in den integrierten Operationen und Teststeuerungen. Diese Fähigkeiten ermöglichen eine verbesserte Prozesskontrolle, eine verbesserte Fehlererkennung und verbesserte Ertragsgewinne. Dadurch ist es ideal für die automatisierte und präzise Inspektion von Wafer- und Maskenstrukturen.