Gebraucht METRICON 2010 #9246090 zu verkaufen

ID: 9246090
Prism coupler Reflective index: Single / Dual thin film layers Measurement accuracy and resolution: Index accuracy: ± .001 Thickness accuracy: ± (0.5% + 50 A) Index resolution: ± .0005 Thickness resolution: ±0.3% Refractive index measuring range: Films and bulk materials with refractive index: 2.45 Films with index up to 2.70 (Depending on film thickness) Typical measurement time: 10-25 Seconds with standard table 15-75 Seconds with high resolution table Index measurement of bulk materials / thick films: Accuracy: ± .001 Resolution: ± .0005 Bulk measurement: 5-20 Seconds Operating wavelength: Low power: 0.5mW He-Ne Laser: 632.8nm CDRH / BRH Class II Substrate materials: Silicon GaAs Glass Quartz Sapphire GGG Lithium niobate Substrate size: Up to 150 mm² Prism types / Index range: 200-P-1 / <1.80 200-P-2 / 1.70-2.45 200-P-3 / <2.10 200-P-4 / <2.02 Rotary table step size: 3.0 or 1.5 min High resolution tables: 0.9/0.45 or 0.6/0.3 min No-charge option.
METRICON 2010 ist eine hochmoderne automatisierte Masken- und Wafer-Inspektionsanlage, die die höchsten Standards in der Halbleiterinspektion erfüllt. Dieses System nutzt fortschrittliche Musteranpassungs- und optische Mikroskopietechnologie, um Maskendefekte und Waferkontamination mit unübertroffener Genauigkeit zu entdecken und zu klassifizieren. Mit fortschrittlichen Algorithmen, 2010 ist in der Lage, einen Wafer mit hochgenauer Auflösung zu scannen, so dass es Fehler bis zu 1/100 eines Mikrons zu erkennen. Proprietäre Beleuchtungslösungen sind auch verfügbar, um METRICON 2010 zu ermöglichen, auch die kleinsten Fehler in jedem geprüften Wafer genau zu identifizieren. Dank der 12MP-Kameratechnologie bietet das Gerät eine effektive Erkennungsrate für Partikel oberhalb von 0,2um und Submikronfehler bis zu 0,5um. Neben einem engen Fokus auf den gesamten Wafer hält sich 2010 auch an branchenübliche Reinraumkonfigurationen sowie erweiterte Fehlerisolierungsfunktionen, die es ermöglichen, defekte Bereiche schnell zu identifizieren und zu beheben. Dies trägt dazu bei, eine hohe Ausbeute an Spezifikationsteilen sowie eine Steigerung der Prozesseffizienz zu gewährleisten. Weitere Merkmale von METRICON 2010 sind Hochgeschwindigkeits-Scannen für die gesamte Maskeninspektion und eine intuitive GUI, die eine visuelle Darstellung von Fehlerorten ermöglicht. Durch die Anzeige von Fehlerattributen wie Größe, Form, Position und Orientierung wird eine höhere Genauigkeit bei der Fehlerklassifizierung erreicht. Der automatisierte und multifunktionale Charakter der Maschine von 2010 macht sie zu einer idealen Wahl für die Produktion mit hohem Durchsatz, die während des gesamten Masken- und Waferinspektionsprozesses Wirtschaftlichkeit und Effizienz bietet. Dieses fortschrittliche Tool wurde entwickelt, um überlegene Genauigkeit und Leistung zu bieten, um die Herausforderungen der heutigen schnell wachsenden Halbleiterindustrie zu bewältigen.
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