Gebraucht METRICON PC 2010 #9084282 zu verkaufen

METRICON PC 2010 ist eine Masken- und Waferinspektionsanlage zur Verwendung in der Photolithographie-Maskierung und Waferherstellung. Das System überprüft die Qualität von Photomasken und Wafern anhand ihres Reflexionsprofils (optische Reflexion von 400-750 nm) und liefert für jede Probe einen Bericht mit einem repräsentativen Reflexionsprofil in einem vollen sichtbaren Spektrum. Das Gerät wurde entwickelt, um Materialfehler in Photomasken zu erkennen und Inspektionsberichte auf Wafern aller Größen zu erstellen. Es verfügt über eine fortschrittliche optische Lesemaschine und eine benutzerdefinierte 100x Entgiftungs- und Bildgebungsplattform, die mit Tri Stack-basierter Beleuchtung Werkzeuge bis zu 200mm inspizieren kann. Das Tool besteht aus einer Wafer-Bühne, einem optischen Kopf und einem Computer-Asset mit METRICON Image Analysis Software-Paket. Der optische Kopf enthält einen Hintergrundbeleuchtungs-Scanner, der aus einer 100-fachen Objektivlinse und einer Reihe von Lichtquellen besteht, darunter grüne, rote und IR-LEDs. Das Objektiv ist auf einem Y-Tisch mit XY-Translationsstufe und X-Achsen-Rotationsstufe montiert. Dadurch kann die Lichtquelle über die Probe gescannt werden, während die Probe auf der Waferstufe fixiert ist. Die Waferstufe besteht aus zwei verstellbaren Kipp- und Drehstufen, einem Fixierfutter und einem Vakuumaufnehmer. Die Waferstufe verfügt zudem über ein mechanisches und elektromagnetisches Stufenkalibriermodell. METRICON Image Analysis Software ist ein leistungsfähiges Software-Paket zur Bildanalyse und zum Vergleich. Es verfügt über eine automatische globale Graphing-Technik, die ein individuelles Reflexionsprofil für jede Probe liefert, so dass es die hellen und dunklen Werte der Probe genau vergleichen kann. Die Software enthält auch eine Defekt-Mapping-Anwendung, mit der Benutzer Funktionen ihrer Proben sowohl im sichtbaren als auch im unsichtbaren Bereich zuordnen können. Die Software kann auch automatisch die Waferdicke über die gesamte Oberfläche messen und zwischen räumlichen und zeitlichen Fehlern unterscheiden. Insgesamt ist METRICON PC 2010Mask & Wafer Inspection Equipment ein fortschrittliches System, mit dem Benutzer die Maskenqualität überprüfen und Wafer-Inspektionsberichte schnell und genau erstellen können. Dank seiner Scan- und Bildgebungsfunktionen bietet es eine genaue Messung sowohl der hellen als auch der dunklen Bereiche der Proben. Darüber hinaus ermöglicht die integrierte Bildanalysesoftware den einfachen Vergleich mehrerer Proben und die Abbildung von Oberflächenfehlern. Damit ist das Gerät ein wertvolles Werkzeug für Qualitätssicherung und Produktionsprozesse in der Photolithographie-Industrie.