Gebraucht METRICON PC 2010 #9245359 zu verkaufen

METRICON PC 2010 ist eine Masken- und Waferinspektionsanlage, die von METRICON, einem deutschen Unternehmen, entwickelt wurde. Entworfen, um für hochpräzise Inspektion von Retikeln, Wafern oder anderen flachen Masken verwendet werden, kann dieses System feine Mängel wie Verunreinigungen, Nadelöcher, Hohlräume, Flecken, Trümmer und andere Unvollkommenheiten erkennen. Das Gerät ist mit einer fortschrittlichen optischen Maschine mit hoher Auflösung und Kontrast ausgestattet, um eine hervorragende Bildgebungsleistung zu bieten. Die für das Werkzeug verwendete LED-Lichtquelle bietet eine gleichmäßige und stabile Beleuchtung mit ausgezeichneter Genauigkeit. Der integrierte Monitor bietet eine einfach zu bedienende grafische Oberfläche und eine Multireflexionserkennung sorgt für hohe Effizienz und Produktivität. METRICON PC-2010 ist mit einer Vielzahl von Softwareprogrammen zur Datenanalyse kompatibel. Diese Programme können eine Vielzahl von Defektarten erkennen, einschließlich Schmutz und Staubpartikel, Kratzer, Kontamination, Nadelöcher, Hohlräume, Flecken, Flocken und Unregelmäßigkeiten in Dicke oder Aussehen. Das Asset kann auch auf Fehlstellungen in Ausrichtungsmarken prüfen. PC 2010 ist auch mit einer Vielzahl von elektrischen, mechanischen und Bewegungssteuerungsfunktionen ausgestattet, so dass es für Hochgeschwindigkeits- und genaues Scannen geeignet ist. Das Modell wurde entwickelt, um die Ermüdung des Bedieners zu reduzieren und die Effizienz zu verbessern. Es unterstützt auch Standard-Signalisierungslogik für die Verarbeitung und Auswertung von Ergebnissen. Die Ausrüstung kann erweitert werden, um neue Funktionen wie die Fähigkeit, chromatische Koordinatenwerte zu messen, Punktmessung, erweiterte Mustererkennung oder spezielle Datenausgänge für den Einsatz in der Robotik. Darüber hinaus können PC-2010 mit manuellen oder automatischen Sortiersystemen verwendet werden. Dieses System eignet sich sowohl für wissenschaftliche als auch für industrielle Herausforderungen. Es kann Informationen über optische Eigenschaften von Masken liefern, sowie Ergebnisse über Halbleiterbauelementqualität oder Partikelverunreinigung liefern. Es bietet auch die Möglichkeit einer detaillierten Bildanalyse und kann als Grundlage für weitere Einheitenkonstruktionen verwendet werden.