Gebraucht MICRO ENGINEERING LM 320 #9085607 zu verkaufen

MICRO ENGINEERING LM 320 ist eine fortschrittliche Masken- und Wafer-Inspektionsanlage, die für die Inspektion der komplexesten Photomasken entwickelt wurde, die für anwendungsspezifische Standardprodukte (ASSPs) und die Herstellung von großflächigen ICs verwendet werden. Das System ist in der Lage, Bilder von Photomasken und Wafern zu erfassen, mit denen kleine Defekte wie Partikel, Verunreinigungen und fehlendes Metall sowie Oberflächenunregelmäßigkeiten, die zu Versagen führen könnten, erkannt werden können. Das Gerät ist mit einer hochleistungsfähigen CCD-Kamera (Charge-Coupled Device) und einer erweiterten Optik ausgestattet, die eine genaue visuelle Inspektion mit automatisch generierten optischen Parametern und einem optischen Feld ermöglicht, das sowohl weite Sichtfelder als auch mikrometergroße Funktionen abdeckt. Die Maschine ist in der Lage, Partikel bis zu 1,0 Mikron zu detektieren. Es kann Funktionen bis zu 0,4 Mikron identifizieren und hat eine programmierbare Mindestfunktionsgröße von 1,2 Mikron. Es enthält auch eine motorisierte Stufe, um eine schnellere Scanrate und eine höhere Genauigkeit der Inspektion zu ermöglichen. Das Sichtfeld des Werkzeugs kann angepasst werden, um die erforderliche Auflösung zu erfüllen und gleichzeitig das bestmögliche Bild bereitzustellen. Das Asset läuft auf einer Windows-Umgebung, so dass es einfach mit der grundlegenden Vertrautheit mit dem Computer zu steuern. Die Analysesoftware ist auch benutzerfreundlich und kann so eingestellt werden, dass sie Routineprüfung durchführt und bei Bedarf umsetzbares Feedback liefert. Das Modell umfasst auch eine komplette Suite von Masken- und Waferbewertungsanwendungen wie Overlay, Verzug, Reflexion und Partikelinspektion. Damit eignet es sich für ein breites Spektrum an Inspektions- und Messtechnik-Anforderungen, ohne zusätzliche Software anschaffen zu müssen. Die Software ist eines der fortschrittlichsten Masken- und Wafer-Bewertungs- und Inspektionspakete auf dem Markt und liefert äußerst zuverlässige Daten. Die Ausrüstung hat die Fähigkeit, eine breite Palette von Defekten von sehr klein bis sehr groß zu erkennen, um sicherzustellen, dass mögliche Probleme schnell und genau erkannt und behoben werden. LM 320 ist ein wertvolles Werkzeug für die Entwicklung, Herstellung und Inspektion aller Arten von Photomasken und Wafern. Es ist in der Lage, Proben aus den komplexesten Masken und Wafern schnell zu scannen und auszuwerten, was es zu einer zuverlässigen und effektiven Lösung für diejenigen macht, die an der Montage, Inspektion und Herstellung von Photomasken und Wafern beteiligt sind.